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1. (WO2005116293) THIN FILM FORMING EQUIPMENT AND THIN FILM FORMING METHOD
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2005/116293    International Application No.:    PCT/JP2005/008413
Publication Date: 08.12.2005 International Filing Date: 09.05.2005
IPC:
C23C 16/509 (2006.01), H01L 21/205 (2006.01)
Applicants: Konica Minolta Holdings, Inc. [JP/JP]; 6-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000005 (JP) (For All Designated States Except US).
OISHI, Kiyoshi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
FUKUDA, Kazuhiro [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: OISHI, Kiyoshi; (JP).
FUKUDA, Kazuhiro; (JP)
Priority Data:
2004-159491 28.05.2004 JP
Title (EN) THIN FILM FORMING EQUIPMENT AND THIN FILM FORMING METHOD
(FR) ÉQUIPEMENT POUR FORMER UNE PELLICULE MINCE ET PROCÉDÉ POUR FORMER UNE PELLICULE MINCE
(JA) 薄膜形成装置及び薄膜形成方法
Abstract: front page image
(EN)Thin film forming equipment is provided for generating high density plasma maintaining stable discharge conditions and for manufacturing an excellent quality thin film. A matching box is provided between a plurality of second power supplies (HF) and high frequency electrodes for matching impedance. An impedance absolute value and a phase value are automatically adjusted by at least one matching box during operation of the equipment, the impedance absolute value is fixed by other matching box and only the phase value is automatically adjusted.
(FR)Un équipement pour former une pellicule est procuré pour générer un plasma à haute densité conservant des conditions stables d’évacuation et pour fabriquer une pellicule mince de grande qualité. Une boîte de correspondance est fournie entre une pluralité d'alimentations électriques (HF) et des électrodes haute fréquence pour faire correspondre l’impédance. Une valeur absolue d'impédance et une valeur de phase sont automatiquement ajustées par au moins une boîte de correspondance pendant le fonctionnement de l’équipement, la valeur absolue d’impédance est fixée par une autre boîte de correspondance et seule la valeur de phase est automatiquement ajustée.
(JA) 安定した放電状態を維持した高密度プラズマを発生させることができ、良質な薄膜を製膜可能な薄膜形成装置を提供する。複数ある第2電源HFと高周波電極の間にあり、インピーダンスを整合する整合器において、装置の稼働中に少なくとも1つの整合器でインピーダンス絶対値と位相値を自動調整し、その他の整合器でインピーダンス絶対値を固定して位相値のみ自動調節する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)