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1. (WO2005114684) PLANAR INDUCTOR AND METHOD OF MANUFACTURING IT
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2005/114684    International Application No.:    PCT/EP2005/005129
Publication Date: 01.12.2005 International Filing Date: 09.05.2005
IPC:
H01F 17/00 (2006.01)
Applicants: SEIKO EPSON CORPORATION [JP/JP]; 4-1, Nishishinjuku 2-Chome, Shinjuku-ku, Tokyo 163-0811 (JP) (For All Designated States Except US).
TANAKA, Kazuaki [JP/ES]; (ES) (For US Only)
Inventors: TANAKA, Kazuaki; (ES)
Agent: CARVAJAL Y URQUIJO, Isabel; Clarke, Modet & Co, Goya, 11, E-28001 Madrid (ES)
Priority Data:
04076429.2 13.05.2004 EP
Title (EN) PLANAR INDUCTOR AND METHOD OF MANUFACTURING IT
(FR) INDUCTEUR PLAN ET PROCEDE DE FABRICATION DE CELUI-CI
Abstract: front page image
(EN)A planar inductor comprises a metal element (11-14) on a substrate (300, 310), said metal element being provided with at least one groove (20) extending along and into said element from at least one surface (2) of said element. Said groove or grooves (20) extend into the element in a direction substantially perpendicular to the surface of the substrate (300, 310), giving rise to a higher Q value and a lower serial resistance are also achieved. The inductor may comprise grooved (11, 13, 14) and non-grooved (12) layers. The invention also relates to a method of manufacturing the inductor.
(FR)L'invention concerne un inducteur plan comprenant un élément métallique (11-14) sur un substrat (300, 310), l'élément métallique présentant au moins une rainure (20) s'étendant le long de celui-ci et dans celui-ci à partir d'au moins une surface (2) de celui-ci. La ou les rainures (20) s'étendent dans l'élément dans une direction sensiblement perpendiculaire à la surface du substrat (300, 310), une valeur Q supérieure et une résistance en série inférieure étant ainsi obtenues. L'inducteur peut comprendre des couches rainurées (11, 13, 14) et non rainurée (12). L'invention concerne également un procédé de fabrication de l'inducteur.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)