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1. (WO2005113623) METHOD FOR REMOVING RESIDUAL MONOMERS FROM POLYOXYMETHYLENES
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2005/113623    International Application No.:    PCT/EP2005/005335
Publication Date: 01.12.2005 International Filing Date: 17.05.2005
Chapter 2 Demand Filed:    14.09.2005    
IPC:
C08G 2/10 (2006.01), C08J 11/02 (2006.01), C08L 59/00 (2006.01)
Applicants: BASF Aktiengesellschaft [DE/DE]; 67056 Ludwigshafen (DE) (For All Designated States Except US).
SCHWITTAY, Claudius [DE/DE]; (DE) (For US Only).
STÖCKELMANN, Elmar [DE/DE]; (DE) (For US Only).
HEINEMANN, Johannes [DE/DE]; (DE) (For US Only).
ZÖLLNER, Knut [DE/DE]; (DE) (For US Only).
STAMMER, Achim [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Inventors: SCHWITTAY, Claudius; (DE).
STÖCKELMANN, Elmar; (DE).
HEINEMANN, Johannes; (DE).
ZÖLLNER, Knut; (DE).
STAMMER, Achim; (DE)
Common
Representative:
BASF AKTIENGESELLSCHAFT; 67056 Ludwigshafen (DE)
Priority Data:
10 2004 025 366.8 19.05.2004 DE
Title (DE) VERFAHREN ZUR ENTFERNUNG VON RESTMONOMEREN AUS POLYOXYMETHYLENEN
(EN) METHOD FOR REMOVING RESIDUAL MONOMERS FROM POLYOXYMETHYLENES
(FR) PROCEDE POUR ELIMINER DES MONOMERES RESIDUELS DE POLYOXYMETHYLENES
Abstract: front page image
(DE)Verfahren zur Entfernung von Restmonomeren aus Polyoxymethylenhomo- oder -copolymeren, mit folgenden Verfahrensschritten: a) in einer Entgasungsvorrichtung werden aus dem Polymeren die Restmonomere als Brüden gasförmig abgezogen, b) durch eine Brüdenleitung werden die Restmonomerbrüden abgeleitet, c) in einer Kondensationsvorrichtung werden die Restmonomere aus den Brüden bei 1,09 bis 102,4 bar und 102 bis 230°C kondensiert, wobei 102°C an keinem Punkt der Kondensationsvorrichtung unterschritten wird, und wobei diejenigen Flächen der Kondensationsvorrichtung, die mit den Brüden in Kontakt kommen, mit einem Flüssigkeitsfilm aus kondensierten Restmonomeren überzogen sind.
(EN)The invention relates to a method for removing residual monomers from polyoxymethylene homo- or copolymers with the following method steps: a) in a degasifying device, the residual monomers are drawn out in the form of vapors from the polymers; b) the residual monomer vapors are led away via a vapor line; c) in a condensation device, the residual monomers are condensed out of the vapors at 1.09 to 102.4 bar and at 102 to 230 °C, during which a temperature of at least 102 °C must be maintained at every point on the condensation device, and the surfaces of the condensation device that come into contact with the vapors are covered with a liquid film comprised of condensed residual monomers.
(FR)L'invention concerne un procédé permettant d'éliminer des monomères résiduels d'homopolymères ou de copolymères de polyoxyméthylène, qui comprend les étapes suivantes: a) dans un dispositif de séparation des gaz, les monomères résiduels sont extraits sous forme gazeuse du polymère, comme buées; b) les buées de monomères résiduels sont évacuées par une conduite d'évacuation de buées; c) dans un dispositif de condensation, les monomères résiduels sont extraits par condensation des buées, à une pression comprise entre 1,09 et 102,4 bar et à une température allant de 102 à 230°C, la limite inférieure de 102°C ne devant être dépassée en aucun point du dispositif de condensation. Les surfaces du dispositif de condensation qui viennent au contact des buées sont recouvertes d'un film liquide à base de monomères résiduels condensés.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: German (DE)
Filing Language: German (DE)