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Pub. No.:    WO/2005/111427    International Application No.:    PCT/JP2005/008723
Publication Date: 24.11.2005 International Filing Date: 12.05.2005
Chapter 2 Demand Filed:    14.03.2006    
F04C 18/32 (2006.01), F04C 23/00 (2006.01), F04C 29/00 (2006.01)
Applicants: DAIKIN INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; Umeda Center Bldg., 4-12, Nakazaki-nishi 2-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5308323 (JP) (For All Designated States Except US).
MASUDA, Masanori [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: MASUDA, Masanori; (JP)
Agent: MAEDA, Hiroshi; Osaka-Marubeni Bldg., 5-7, Hommachi 2-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 541-0053 (JP)
Priority Data:
2004-144675 14.05.2004 JP
(JA) 回転式圧縮機
Abstract: front page image
(EN)A seal ring (29) is provided between an end plate (26A) of an eccentric rotating body (21) and a support plate (17), and a high fluid pressure is applied to the end plate (26A) to cause an axial pressing force to be applied to the end plate (26A). The seal ring (29) is decentered from the center of a cylinder (21) as the eccentric rotating body, and as a result, radial displacement between a thrust load and the axial pressing force at the end plate (26A) can be reduced to effectively reduce overturning moment.
(FR)Une bague d'étanchéité (29) est placée entre une plaque latérale (26A) d'un corps rotatif excentrique (21) et une plaque de support (17), et une forte pression de fluide est appliquée à la plaque latérale (26A) pour provoquer l'application d'une force de pression axiale à la plaque latérale (26A). La bague d'étanchéité (29) est décentrée du centre d'un cylindre (21) comme le corps rotatif excentrique, et par conséquent, un déplacement radial entre une poussée axiale et la force de pression axiale au niveau de la plaque latérale (26A) peut être diminué pour réduire efficacement le moment de renversement.
(JA) 偏心回転体(21)の鏡板(26A)と支持板(17)との間にシールリング(29)を設け、この鏡板(26A)に高圧の流体圧力を作用させることにより、この鏡板(26A)に軸方向押し付け力を作用させる。ここで、シールリング(29)を偏心回転体であるシリンダ(21)の中心から偏心させることにより、偏心回転体(21)の鏡板(26A)におけるスラスト荷重と軸方向押し付け力との径方向のずれを減少させ、転覆モーメントを効果的に軽減できる。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)