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1. (WO2005108516) COMPOSITION FOR FORMING INSULATING FILM, METHOD FOR PRODUCING SAME, SILICA INSULATING FILM AND METHOD FOR FORMING SAME
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2005/108516    International Application No.:    PCT/JP2005/008222
Publication Date: 17.11.2005 International Filing Date: 28.04.2005
IPC:
B05D 5/12 (2006.01), B05D 7/24 (2006.01), C08G 77/50 (2006.01), C09D 5/25 (2006.01), C09D 7/12 (2006.01), C09D 183/02 (2006.01), C09D 183/04 (2006.01), C09D 183/08 (2006.01), C09D 183/14 (2006.01), H01B 3/46 (2006.01), H01L 21/312 (2006.01)
Applicants: JSR CORPORATION [JP/JP]; 6-10, Tsukiji 5-chome, Chuo-ku, Tokyo 1048410 (JP) (For All Designated States Except US).
AKIYAMA, Masahiro [JP/JP]; (JP) (For US Only).
NAKAGAWA, Hisashi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
KUROSAWA, Takahiko [JP/JP]; (JP) (For US Only).
SHIOTA, Atsushi [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: AKIYAMA, Masahiro; (JP).
NAKAGAWA, Hisashi; (JP).
KUROSAWA, Takahiko; (JP).
SHIOTA, Atsushi; (JP)
Agent: OFUCHI, Michie; 2nd Floor, Ogikubo TM Bldg. 26-13, Ogikubo 5-chome Suginami-ku, Tokyo 167-0051 (JP)
Priority Data:
2004-141200 11.05.2004 JP
2005-040460 17.02.2005 JP
Title (EN) COMPOSITION FOR FORMING INSULATING FILM, METHOD FOR PRODUCING SAME, SILICA INSULATING FILM AND METHOD FOR FORMING SAME
(FR) COMPOSITION POUR FORMER UN FILM ISOLANT, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE LADITE COMPOSITION, FILM ISOLANT DE SILICE ET PROCÉDÉ D'ÉLABORATION DUDIT FILM
(JA) 絶縁膜形成用組成物およびその製造方法、ならびにシリカ系絶縁膜およびその形成方法
Abstract: front page image
(EN)Disclosed is a composition for forming an insulating film containing a hydrolysis-condensation product and an organic solvent which hydrolysis-condensation product is obtained through hydrolysis-condensation of a component (A), which is at least one silane compound selected from the group consisting of compounds represented by the general formulae (1)-(3) below, performed in the presence of a component (B), which is a polycarbosilane having a main chain with a structure expressed as -(Si-CH2)x- and a structure represented by the general formula (4) below, a structure represented by the general formula (5) below, a structure represented by the general formula (6) below and a structure represented by the general formula (7) below.
(FR)Il est prévu une composition pour former un film isolant contenant un produit de condensation par hydrolyse et un solvant organique, lequel produit de condensation par hydrolyse est obtenu par condensation par hydrolyse d’un composant (A), qui est au moins un composé silane sélectionné parmi le groupe consistant en des composés représentés par les formules générales (1)-(3) ci-dessous, condensation réalisée en présence d’un composant (B), qui est un polycarbosilane ayant une chaîne principale avec une structure exprimée sous la forme -(Si-CH2)x- et une structure représentée par la formule générale (4) ci-dessous, une structure représentée par la formule générale (5) ci-dessous, une structure représentée par la formule générale (6) ci-dessous et une structure représentée par la formule générale (7) ci-dessous.
(JA)not available
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)