WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2005108291) IMPROVED PROCESS FOR PRODUCTION OF PURE AMORPHOUS SILICA IN PARTICULAR XEROGELS FOR BEER STABILIZATION AND FOR INSULATION PURPOSES
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2005/108291    International Application No.:    PCT/NO2005/000155
Publication Date: 17.11.2005 International Filing Date: 12.05.2005
IPC:
C01B 33/12 (2006.01), C01B 33/16 (2006.01)
Applicants: PROMEKS AS [NO/NO]; Herøya Industripark B25, N-3908 Porsgrunn (NO) (For All Designated States Except US).
LANGSETH, Birger [NO/NO]; (NO) (For US Only).
ROSENKILDE, Christian [NO/NO]; (NO) (For US Only).
LOBODA, Natalia [NO/NO]; (NO) (For US Only)
Inventors: LANGSETH, Birger; (NO).
ROSENKILDE, Christian; (NO).
LOBODA, Natalia; (NO)
Agent: OSLO PATENTKONTOR AS; Postboks 7007 M, N-0306 Oslo (NO)
Priority Data:
20041960 12.05.2004 NO
20042646 23.06.2004 NO
Title (EN) IMPROVED PROCESS FOR PRODUCTION OF PURE AMORPHOUS SILICA IN PARTICULAR XEROGELS FOR BEER STABILIZATION AND FOR INSULATION PURPOSES
(FR) PROCESSUS AMELIORE DE PRODUCTION DE SILICE AMORPHE PURE EN PARTICULIER DE XEROGELS DESTINES A STABILISATION DE LA BIERE ET A D'AUTRES FINS D'ISOLATION
Abstract: front page image
(EN)A process for production of amorphous silica from quartz or other SiO2 based raw material, includes the following steps: heating (calcinations step) of quartz or other SiO2 based raw material with MgCl2 , CaCl2 or other chlorides like BeCl2, SrCl2 and BaCl2 (commonly referred to as MeCl 2) at a temperature of 800 - 1300 °C wherein the weight ratio of MeCl2 to SiO2 is equal or greater than 2 and the presence of water vapour in excess of the stoichiometric amount needed; leaching at temperatures preferable between 50 - 95 or between 110 and 170 °C of the produced silicate with HCl to form a solution of MeCl2 with insoluble silica; separation of insoluble silica from the solution; recycling of MeCl2 to the heating step and the remaining HCl solution to the leaching step.
(FR)La présente invention concerne la production de silice amorphe à partir de quartz ou d'une autre matière première à base de SiO2, qui comprend l'étape suivante: chauffage (étape de calcination) de quartz ou d'une autre matière première à base de SiO2 avec MgCl2, CaCl2 ou d'autres chlorures tels que BeCl2, SrCl2 et BeCl2 (communément regroupés en MeCl 2) à une température comprise entre 800 et 1300 °C, le rapport de masse de MeCl2 sur SiO2 étant supérieur ou égal à 2 et la présence de vapeur d'eau en excès de la quantité stoéchiométrique nécessaire, lessivage de préférence à des températures comprises entre 50 et 95 °C ou entre 110 et 170 °C de la silice produite avec HCI de façon à former une solution de MeCl2 avec une silice insoluble, séparation de la silice insoluble de la solution, recyclage de MeCl2 à l'étape de chauffage et de la solution HCI restante à l'étape du lessivage.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)