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1. (WO2005106590) EXPOSURE APPARATUS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2005/106590    International Application No.:    PCT/JP2005/008114
Publication Date: 10.11.2005 International Filing Date: 28.04.2005
IPC:
G03F 7/20 (2006.01), G03F 9/00 (2006.01)
Applicants: INTEGRATED SOLUTIONS CO., LTD. [JP/JP]; 46-4, Sendagi 5-chome, Bunkyo-ku, Tokyo 1130022 (JP) (For All Designated States Except US).
ITO, Miyoshi [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: ITO, Miyoshi; (JP)
Agent: SASAJIMA, Fujio; Toranomon 1-chome Mori Bldg 19-5, Toranomon 1-chome Minato-ku, Tokyo 1050001 (JP)
Priority Data:
2004-134440 28.04.2004 JP
Title (EN) EXPOSURE APPARATUS
(FR) APPAREIL D'EXPOSITION
(JA) 露光装置
Abstract: front page image
(EN)An exposure apparatus (1) relatively scans a glass board (8) by laser beams by an exposure optical system (3), and directly exposes a functional pattern on the glass board (8). The exposure apparatus is provided with an image pickup means (5), which is arranged on a same side as the exposure optical system (3) to the glass board (8), and picks up an image of a pixel (22) of a black matrix (21) previously formed to be an exposure position reference on the glass board (8), having a front side of the scanning position of the laser beams in a transfer direction of the glass board (8) as an image pickup position; an illuminating means (6) arranged at least in one of the directions vertical to the glass board (8), for illuminating the pixel (22) to allow image pickup by the image pickup means (5); and an optical system control means (7), which detects the reference position previously set in the pixel (22) image of which is picked up by the image pickup means (5) and controls irradiation start or irradiation stop of the laser beams, having the reference position as a reference. Thus, alignment accuracy of the functional pattern is improved and cost increase of the exposure apparatus is suppressed.
(FR)Un appareil d'exposition (1) balaye relativement une plaque de verre (8) grâce à des faisceaux laser par un système optique d'exposition (3), et il insole directement un motif fonctionnel sur la plaque de verre (8). L'appareil d'exposition est doté d'un moyen de lecture d'image (5) qui est agencé du même côté que le système optique d'exposition (3) sur la plaque de verre (8) et il capte l'image d'un pixel (22) d'une matrice noire (21) formée au préalable pour représenter une référence de position d'exposition sur la plaque de verre (8), ayant la face avant de la position de balayage des faisceaux laser dans une direction de transfert de la plaque de verre (8) comme position de lecture d'image, un moyen d'illumination (6) qui est agencé au moins dans l'une des directions verticales vers la plaque de verre (8) afin d'éclairer le pixel (22) pour permettre la lecture de l'image par le moyen de lecture d'image (5) et un moyen de commande du système optique (7) qui détecte la position de référence établie au préalable dans l'image du pixel (22) qui est captée par le moyen de lecture d'image (5) et qui commande le début de l'éclairement et l'arrêt de l'éclairement des faisceaux laser, en présentant la position de référence comme une référence. Ainsi, la précision d'alignement du motif fonctionnel est améliorée et l'augmentation de coût de l'appareil d'exposition est diminuée.
(JA) 露光光学系3によりレーザビームをガラス基板8に対して相対的に走査し、該ガラス基板8上に機能パターンを直接露光する露光装置1であって、前記ガラス基板8に対して前記露光光学系3と同じ側に配設され、前記ガラス基板8の搬送方向にて前記レーザビームの走査位置の手前側を撮像位置として、前記ガラス基板8に予め形成された露光位置の基準となるブラックマトリクス21のピクセル22を撮像する撮像手段5と、前記ガラス基板8に対して上下方向の少なくとも一方に配設され、前記ピクセル22を照明して前記撮像手段5による撮像を可能にする照明手段6と、前記撮像手段5で撮像された前記ピクセル22に予め設定された基準位置を検出し、該基準位置を基準にして前記レーザビームの照射開始又は照射停止の制御を行う光学系制御手段7とを備えたものである。これにより、機能パターンの重ね合わせ精度を向上すると共に露光装置のコストアップを抑制する。                                                                                 
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
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African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)