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1. (WO2005106071) CONTINUOUS THERMAL VACUUM DEPOSITION DEVICE AND METHOD
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2005/106071    International Application No.:    PCT/DE2005/000700
Publication Date: 10.11.2005 International Filing Date: 16.04.2005
IPC:
C23C 14/24 (2006.01), C23C 14/56 (2006.01)
Applicants: VON ARDENNE ANLAGENTECHNIK GMBH [DE/DE]; Plattleite 19/29, 01324 Dresden (DE) (For All Designated States Except US).
GOTTSMANN, Lutz [DE/DE]; (DE) (For US Only).
SEYFERT, Ulf [DE/DE]; (DE) (For US Only).
WENZEL, Bernd-Dieter [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Inventors: GOTTSMANN, Lutz; (DE).
SEYFERT, Ulf; (DE).
WENZEL, Bernd-Dieter; (DE)
Agent: ADLER, Peter; Lippert Stachow & Partner, Krenkelstrasse 3, 01309 Dresden (DE)
Priority Data:
10 2004 020 841.7 27.04.2004 DE
10 2004 041 855.1 27.08.2004 DE
Title (DE) VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR KONTINUIERLICHEN THERMISCHEN VAKUUMBESCHICHTUNG
(EN) CONTINUOUS THERMAL VACUUM DEPOSITION DEVICE AND METHOD
(FR) DISPOSITIF ET PROCEDE DE DEPOT THERMIQUE CONTINU SOUS VIDE
Abstract: front page image
(DE)Die Erfindung betrifft ein Beschichtungsverfahren zur thermischen Vakuumbeschichtung von einem kontinuierlich transportierten Substrat (14), das sich in einem Bedampfungskanal bewegt (13), durch Verdampfen von festen/oder flüssigen Beschichtungsmaterialen (10) und Dampfabscheidung des dampfförmigen Beschichtungsmaterials auf dem Substrat in einer Bedampfungseinrichtung. Die Lösung der erfindungsgemäßen Aufgabe, ein solches Beschichtungsverfahren zur thermischen Vakuumbeschichtung von kontinuierlich transportiertem Substrat bereitzustellen, bei dem die Zugänglichkeit zu der Verdampfungseinrichtung (3) verbessert wird und gleichzeitig eine voneinander unabhängige Prozesssteuerung von Bedampfungskammer und Verdampfungseinrichtung möglich ist, wird dadurch erreicht, dass das Beschichtungsmaterial in wenigstens einer außerhalb der Bedampfungskammer angeordneten Verdampfungseinrichtung mit einem Verdampfer verdampft wird, wobei die Dampfzufuhr zwischen den Verdampfer und der Bedampfungskanal reguliert wird.
(EN)The invention relates to a coating method for thermally vacuum-depositing a continuously conveyed substrate (14) that moves within a deposition channel (13) by vaporizing solid or liquid coating materials (10) and vapor-depositing the vaporized coating material onto the substrate in a deposition device. The aim of the invention is to create a coating method for thermally vacuum-depositing a continuously conveyed substrate, in which accessibility to the vaporization device (3) is improved while the processes taking place in the deposition chamber and the vaporization device can be controlled independently of each other. Said aim is achieved by evaporating the coating material in at least one evaporation device located outside the deposition chamber by means of an evaporator, delivery of steam between the evaporator and the deposition channel being regulated.
(FR)L'invention concerne un procédé de revêtement pour effectuer un dépôt thermique sous vide sur un substrat transporté en continu, qui se déplace dans un canal de métallisation sous vide, par vaporisation de matériaux de revêtement solides et/ou liquides et par dépôt de vapeur du matériau de revêtement à l'état de vapeur, sur le substrat dans un dispositif de métallisation sous vide. L'invention vise à mettre au point un procédé de ce type pour effectuer un dépôt thermique continu sous vide, sur le substrat transporté en continu, qui permette une meilleure accessibilité au dispositif de vaporisation et simultanément une commande de processus indépendante de la chambre de métallisation sous vide et du dispositif de vaporisation. A cet effet, il est prévu que le matériau de revêtement soit vaporisé avec un vaporisateur dans au moins un dispositif de vaporisation disposé en dehors de la chambre de métallisation sous vide, l'alimentation en vapeur entre le vaporisateur et le canal de métallisation sous vide étant régulée.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: German (DE)
Filing Language: German (DE)