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1. (WO2005103997) METHOD AND SYSTEM FOR RUN-TO-RUN CONTROL
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2005/103997    International Application No.:    PCT/US2005/002770
Publication Date: 03.11.2005 International Filing Date: 01.02.2005
IPC:
G06F 19/00 (2006.01)
Applicants: TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-6, Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 107-8481 (JP) (For All Designated States Except US).
ADVANCED MICRO DEVICES, INC. [US/US]; One AMD Place, P.O. Box 3453, Sunnyvale, CA 94088-3453 (US) (For All Designated States Except US).
YUE, Hongyu [CN/US]; (US) (For US Only).
WISEMAN, Joseph, William [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: YUE, Hongyu; (US).
WISEMAN, Joseph, William; (US)
Agent: MAIER, Gregory, J.; Oblon, Spivak, McClelland, Maier & Neustadt, P.C., 1940 Duke Street, Alexandria, VA 22314 (US)
Priority Data:
10/811,932 30.03.2004 US
Title (EN) METHOD AND SYSTEM FOR RUN-TO-RUN CONTROL
(FR) PROCEDE ET SYSTEME POUR COMMANDE SEQUENTIELLE
Abstract: front page image
(EN)A method and system of controlling a process from run-to-run for semiconductor manufacturing. The method of control utilizes a process model to establish a relationship between process control input data and process control output data. The method of control involves minimizing the difference between target process control output data and process control output data predicted by applying the process model to the new process control input data.
(FR)La présente invention a trait à un procédé et un système de commande séquentielle de traitement pour la fabrication de semi-conducteurs. Le procédé de commande utilise un modèle de traitement pour l'établissement d'une relation entre des données d'entrée de commande de traitement et des données de sortie de commande de traitement. Le procédé de commande comprend la minimisation de la différence entre des données de sortie cibles de commande de traitement et des données de sortie prédites de commande de traitement par l'application du modèle de traitement aux nouvelles données d'entrée de commande de traitement.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)