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1. (WO2005103820) LEVENSON TYPE PHASE SHIFT MASK AND PRODUCTION METHOD THEREFOR
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2005/103820    International Application No.:    PCT/JP2005/007437
Publication Date: 03.11.2005 International Filing Date: 19.04.2005
IPC:
G03F 1/30 (2012.01), G03F 1/36 (2012.01), G03F 1/68 (2012.01), G03F 7/20 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Applicants: TOPPAN PRINTING CO., LTD. [JP/JP]; 5-1, Taito 1-chome, Taito-ku, Tokyo 1100016 (JP) (For All Designated States Except US).
KOJIMA, Yosuke [JP/JP]; (For US Only).
KONISHI, Toshio [JP/JP]; (For US Only).
TANAKA, Keishi [JP/JP]; (For US Only).
OTAKI, Masao [JP/JP]; (For US Only).
SASAKI, Jun [JP/JP]; (For US Only)
Inventors: KOJIMA, Yosuke; .
KONISHI, Toshio; .
TANAKA, Keishi; .
OTAKI, Masao; .
SASAKI, Jun;
Agent: SUZUYE, Takehiko; c/o SUZUYE & SUZUYE 1-12-9, Toranomon Minato-ku, Tokyo 105-0001 (JP)
Priority Data:
2004-128043 23.04.2004 JP
Title (EN) LEVENSON TYPE PHASE SHIFT MASK AND PRODUCTION METHOD THEREFOR
(FR) MASQUE DEPHASEUR DE TYPE LEVENSON ET SON PROCEDE DE FABRICATION
(JA) レベンソン型位相シフトマスク及びその製造方法
Abstract: front page image
(EN)A Levenson type phase shift mask which has light shielding portions and openings formed on a transparent substrate, and which is repeatedly provided with shifter openings formed by partially digging the transparent substrate portions of the openings or partially laying transparent films on the transparent substrate portions of the openings and with non-shifter openings to reverse the phase of a transmitted light by the shifter openings, wherein light shielding patterns each held by adjacent openings of the same kind from the opposite sides are provided, and a bias correction is made for widening the light shielding pattern a specified amount toward the opposite sides with respect to specified design line width defined by mask designing.
(FR)Masque déphaseur de type Levenson comportant des portions et des ouvertures formant écran contre la lumière formées sur un substrat transparent, et doté à plusieurs reprises d’ouvertures déphaseuses formées par creusement partiel des portions du substrat transparent des ouvertures ou par dépose partielle de films transparents sur les portions du substrat transparent des ouvertures et d’ouvertures non déphaseuses pour inverser la phase d’une lumière transmise par les ouvertures déphaseuses, dans lequel il est prévu des motifs d’écran contre la lumière dans des ouvertures adjacentes du même type à partir des côtés opposés, et une correction de la polarisation est réalisée pour élargir le motif d’écran contre la lumière d’une quantité déterminée en direction des côtés opposés par rapport à une largeur de raie de conception déterminée définie par la conception du masque.
(JA) レベンソン型位相シフトマスクは、透明基板上に形成された遮光部と開口部を有し、前記開口部の透明基板を部分的に掘り込むか又は前記開口部の透明基板上に透明膜を部分的に上置きして形成されたシフター開口部と非シフター開口部とが繰り返し存在し、前記シフター開口部により透過光の位相を反転させるレベンソン型位相シフトマスクであって、隣接する同種類の開口部に両側から挟まれた遮光部パターンを有し、マスクの設計デザインで定められた所定の設計線幅に対して前記遮光部パターンを所定量だけ両側へ広げるバイアス補正が施されている。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)