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1. (WO2005069191) METHOD AND SYSTEM FOR FAILURE SIGNAL DETECTION ANALYSIS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2005/069191    International Application No.:    PCT/US2003/041668
Publication Date: 28.07.2005 International Filing Date: 31.12.2003
IPC:
G06F 19/00 (2006.01)
Applicants: PDF SOLUTIONS, INC. [US/US]; Suite 700, 333 West San Carlos Street, San Jose, CA 95110 (US) (For All Designated States Except US).
BURCH, Richard [US/US]; (US) (For US Only).
DORAI-RAJ, Sundardas, S. [US/US]; (US) (For US Only).
LIN, Paul [US/US]; (US) (For US Only).
HARPAVAT, Shilpi [US/US]; (US) (For US Only).
GRAVES, Spencer [US/US]; (US) (For US Only).
ANTONISSEN, Eric [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: BURCH, Richard; (US).
DORAI-RAJ, Sundardas, S.; (US).
LIN, Paul; (US).
HARPAVAT, Shilpi; (US).
GRAVES, Spencer; (US).
ANTONISSEN, Eric; (US)
Agent: KOFFS, Steven, E.; Duane Morris LLP, One Liberty Place, Philadelphia, PA 19103-7396 (US)
Priority Data:
Title (EN) METHOD AND SYSTEM FOR FAILURE SIGNAL DETECTION ANALYSIS
(FR) PROCEDE ET SYSTEME POUR ANALYSE DE DETECTION DE SIGNAL DE DEFAILLANCE
Abstract: front page image
(EN)A method for analyzing a sample of wafers includes identifying F failure metrics applicable to at least one pattern on each wafer within the sample. Z spatial and/or reticle zones are identified on each wafer, where Z and F are integers. Values are provided for each failure metric, for each zone on each wafer. A point is defined for each respective wafer in an N-dimensional space, where N=F*Z, and each point has coordinates corresponding to values of the F failure metrics in each of the Z zones of the corresponding wafer. The sample of wafers is partitioned into a plurality of clusters, so that the wafers within each clusters are close to each other in the N-dimensional space. A plurality of clusters is thus identified from the sample of wafers so that within each individual cluster, the wafers have similar defects to each other.
(FR)L'invention concerne un procédé destiné à analyser un échantillon de plaquettes et consistant à identifier F mesures de défaillance applicables à au moins un motif sur chaque plaquette dans l'échantillon. Z zones spatiales et/ou réticulaires sont identifiées sur chaque plaquette, Z et F étant des nombres entiers. On utilise des valeurs pour chaque mesure de défaillance, pour chaque zone sur chaque plaquette. Un point est défini pour chaque plaquette respective dans un espace N-dimensionnel, où N=F*Z, et chaque point possède des coordonnées correspondant aux valeurs des F mesures de défaillance dans chacune des Z zones de la plaquette correspondante. L'échantillon de plaquettes est divisé en une pluralité de groupes de sorte que les plaquettes dans chaque groupe soient voisines les unes des autres dans l'espace N-dimensionnel. Une pluralité de groupes sont ainsi identifiés à partir de l'échantillon de plaquettes, de sorte que dans chaque groupe individuel, les plaquettes présentent des défauts similaires.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)