WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2005068058) HYDROGEN OR HELIUM PERMEATION MEMBRANE AND STORAGE MEMBRANE AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2005/068058    International Application No.:    PCT/JP2005/000001
Publication Date: 28.07.2005 International Filing Date: 04.01.2005
IPC:
C01B 3/50 (2006.01)
Applicants: SFC CO., LTD.; 11, Nihon-ohdohri, Naka-ku, Yokohama-shi Kanagawa 2310021 (JP) (For All Designated States Except US).
IKEDA, Shinichi; (JP) (For US Only).
UMEYAMA, Norio; (JP) (For US Only).
OGASAWARA, Ariyoshi; (JP) (For US Only).
ABE, Hideo; (JP) (For US Only).
TANAKA, Yasuhito; (JP) (For US Only)
Inventors: IKEDA, Shinichi; (JP).
UMEYAMA, Norio; (JP).
OGASAWARA, Ariyoshi; (JP).
ABE, Hideo; (JP).
TANAKA, Yasuhito; (JP)
Agent: HIRAKI, Yusuke; Kamiya-cho MT Bldg. 19F, 3-20, Toranomon 4-chome Minato-ku Tokyo 1050001 (JP)
Priority Data:
2004-038997 15.01.2004 JP
Title (EN) HYDROGEN OR HELIUM PERMEATION MEMBRANE AND STORAGE MEMBRANE AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME
(FR) MEMBRANE DE PERMÉATION EN HYDROGÈNE OU HÉLIUM ET MEMBRANE DE STOCKAGE ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION ASSOCIE
(JA) 水素又はヘリウムの透過膜、貯蔵膜及びその形成方法
Abstract: front page image
(EN)A silicon resin comprising at least phenylheptamethylcyclotetrasiloxane and/or 2,6-cis-diphenylhexamethylcyclotetrasiloxane is provided as a hydrogen permeation membrane capable of selective hydrogen permeation and capable of molding to arbitrary shape and is subjected to a firing step conducted at a thermal treatment temperature of 200 to 500°C, thereby obtaining a coating resisting 300°C or higher heat and further obtaining a hydrogen or helium permeation membrane excelling in water resistance. Similarly, a silicon resin comprising at least phenylheptamethylcyclotetrasiloxane and/or 2,6-cis-diphenylhexamethylcyclotetrasiloxane is provided as a hydrogen or helium storage membrane capable of selective hydrogen storage and capable of molding to arbitrary shape and is subjected to a firing step conducted at a thermal treatment temperature of 200 to 500°C, thereby obtaining a coating resisting 300°C or higher heat and further obtaining a hydrogen or helium storage membrane excelling in water resistance.
(FR)L'invention concerne une résine de silicium comprenant au moins du phénylheptaméthylcyclotétrasiloxane et/ou du 2,6-cis-diphénylhexaméthylcyclotétrasiloxane, sous la forme d'une membrane de perméation en hydrogène permettant une perméation en hydrogène sélective et pouvant être moulée selon une forme arbitraire, soumise à une étape de cuisson réalisée à une température de traitement thermique de 200°C à 500°C, ce qui permet d'obtenir un revêtement résistant à une chaleur supérieure ou égale à 300°C, et d'obtenir en outre une membrane de perméation en hydrogène ou hélium présentant une excellente résistance à l'eau. De façon similaire, l'invention concerne une résine de silicium comprenant au moins du phénylheptaméthylcyclotétrasiloxane et/ou du 2,6-cis-diphénylhexaméthylcyclotétrasiloxane, sous la forme d'une membrane de stockage d'hydrogène ou d'hélium permettant un stockage d'hydrogène sélectif et pouvant être moulée selon une forme arbitraire, soumise à une étape de cuisson réalisée à une température de traitement thermique de 200°C à 500°C, ce qui permet d'obtenir un revêtement résistant à une chaleur supérieure ou égale à 300°C, et d'obtenir en outre une membrane de stockage d'hydrogène ou d'hélium présentant une excellente résistance à l'eau.
(JA)not available
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)