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1. (WO2005067015) FILM FORMING DEVICE AND FILM FORMING METHOD
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2005/067015    International Application No.:    PCT/JP2004/019239
Publication Date: 21.07.2005 International Filing Date: 22.12.2004
IPC:
C23C 16/455 (2006.01), H01L 21/205 (2006.01), H01L 21/31 (2006.01)
Applicants: HORIBA, Ltd. [JP/JP]; 2, Miyanohigashi-cho, Kisshoin, Minami-ku, Kyoto-city Kyoto 6018510 (JP) (For All Designated States Except US).
Renesas Technology Corp. [JP/JP]; 2-4-1, Marunouchi, Chiyoda-ku Tokyo 1006334 (JP) (For All Designated States Except US).
ROHM CO.,LTD. [JP/JP]; 21, Saiin Mizosaki-cho, Ukyo-ku, Kyoto-shi Kyoto 6158585 (JP) (For All Designated States Except US).
TOMINAGA, Koji [JP/JP]; (JP) (For US Only).
YASUDA, Tetsuji [JP/JP]; (JP) (For US Only).
NABATAME, Toshihide [JP/JP]; (JP) (For US Only).
IWAMOTO, Kunihiko [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: TOMINAGA, Koji; (JP).
YASUDA, Tetsuji; (JP).
NABATAME, Toshihide; (JP).
IWAMOTO, Kunihiko; (JP)
Agent: NISHIMURA, Ryuhei; 3F Karasumanijyo Bldg., 267 Makieya-cho, Nijyo-agaru Karasuma-dori, Nakagyo-ku Kyoto-city, Kyoto 604-0857 (JP)
Priority Data:
2004-000685 05.01.2004 JP
Title (EN) FILM FORMING DEVICE AND FILM FORMING METHOD
(FR) DISPOSITIF ET PROCEDE DE PRODUCTION DE FILM
(JA) 成膜装置と成膜方法
Abstract: front page image
(EN)Throughput in a film forming process is improved, and simultaneously, a thin film of excellent quality is produced at low cost. A film forming device has a film forming chamber (8), raw material gas supply piping (2) for supplying a raw material gas to the film forming chamber (8), reactive gas supply piping (1) for supplying a reactive gas to the film forming chamber (8), and purge gas supply piping (3) for supplying a purge gas purging the raw material gas and the reactive gas. The film forming device forms a thin film on a substrate (82) in the film forming chamber (8) by alternately performing supply of the raw material gas or supply of the reactive gas and purging. The film forming device has intermediate piping (22) and/or intermediate piping (12), both with a certain volume. The intermediate piping (22) is set in a portion or the entire portion of the raw material gas supply piping (2), and into which intermediate piping the raw material gas can be sealed when the raw material gas is not supplied. The intermediate piping (12) is set in a portion or the entire portion of the reactive gas supply piping (1), and into which intermediate piping the reactive gas can be sealed when the reactive gas is not supplied.
(FR)La présente invention concerne un procédé permettant d'améliorer le rendement d'un processus de production de film et permettant de produire un film mince de très bonne qualité de manière économique. La présente invention concerne également un dispositif de production de film qui présente une chambre de production de film (8), une tuyauterie d'alimentation en gaz matière première (2) conçue pour alimenter la chambre de production de film (8) en gaz matière première, une tuyauterie d'alimentation en gaz réactif (1) conçue pour alimenter la chambre de production de film (8) en gaz réactif, ainsi qu'une tuyauterie d'alimentation en gaz de purge (3) conçue pour fournir un gaz de purge qui purge le gaz matière première et le gaz réactif. Ledit dispositif de production de film permet de produire un film mince sur un substrat (82) dans la chambre de production de film (8) en effectuant alternativement une alimentation en gaz matière première ou une alimentation en gaz réactif et une purge. Ce dispositif de production de film comprend une tuyauterie intermédiaire (22) et/ou une tuyauterie intermédiaire (12) présentant chacune un certain volume. La tuyauterie intermédiaire (22) se trouve dans une partie ou dans toute la tuyauterie d'alimentation en gaz matière première (2) et permet de garder hermétiquement le gaz matière première lorsque celui-ci n'est pas fourni. La tuyauterie intermédiaire (12) se trouve dans une partie ou dans toute la tuyauterie d'alimentation en gaz réactif (1) et permet de garder hermétiquement le gaz réactif lorsque celui-ci n'est pas fourni.
(JA)成膜工程におけるスループットを改善すると同時に良質な薄膜を低コストで生産する。そのために、成膜室8と、前記成膜室8へ原料ガスを供給する原料ガス供給配管2と、前記成膜室8へ反応性ガスを供給する反応性ガス供給配管1と、前記原料ガス及び前記反応性ガスをパージするパージガスを供給するパージガス供給配管3とを備え、前記原料ガスの供給又は反応性ガスの供給とパージとを交互に行うことにより、前記成膜室8内で基板82上に薄膜を成膜する成膜装置であって、前記原料ガス供給配管2の一部又は全部に設定され、前記原料ガスの非供給時に前記原料ガスを封入し得る、一定容積を有した中間配管22、及び/又は前記反応性ガス供給配管1の一部又は全部に設定され、前記反応性ガスの非供給時に前記反応性ガスを封入し得る、一定容積を有した中間配管12を備えていることを特徴とする成膜装置とした。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)