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1. (WO2005066677) IMPROVED ACCURACY FIDUCIAL MARKS FOR TRENCH IMPLEMENTATION IN OPTICAL TRANSCEIVER PLATFORMS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2005/066677    International Application No.:    PCT/IL2004/001145
Publication Date: 21.07.2005 International Filing Date: 19.12.2004
IPC:
G02B 6/136 (2006.01), G02B 6/42 (2006.01)
Applicants: MARGALIT, Moti [IL/IL]; (IL) (For US Only).
ROGOVSKY, Gideon [IL/IL]; (IL) (For US Only).
AVNI, Eitan [IL/IL]; (IL) (For US Only).
LAMBDY CROSSING, LTD. [IL/IL]; Intellectual Property Dept, 3 Shoham St., P.O. Box 3028 Caesarea, Industrial Park, IL-38900 Caesarea (IL) (For All Designated States Except US)
Inventors: MARGALIT, Moti; (IL).
ROGOVSKY, Gideon; (IL).
AVNI, Eitan; (IL)
Agent: KAHN, Simon; P.O. Box 34598, 91035 Jerusalem (IL)
Priority Data:
60/534,388 07.01.2004 US
Title (EN) IMPROVED ACCURACY FIDUCIAL MARKS FOR TRENCH IMPLEMENTATION IN OPTICAL TRANSCEIVER PLATFORMS
(FR) REPERES D'ALIGNEMENT A PRECISION AMELIOREE POUR LA REALISATION DE TRANCHEES
Abstract: front page image
(EN)A method for manufacturing a planar lightwave circuit (PLC) based optical module comprising at least one component to be aligned based on fiducial marks, the method comprising: depositing a waveguide layer; defining a waveguide and at least one fiducial mark in the waveguide layer; etching a trench for placement of an optical component, the etching of the trench removing the at least one fiducial mark, the etching further defining a topography (780) reflecting the at least one fiducial mark; depositing a metal contact layer (520); and aligning a component (550) with the waveguide, the component being in contact with the metal contact layer, the aligning being accomplished at least partially utilizing the topography reflecting the at least one fiducial mark.
(FR)Procédé de fabrication d'un module optique à partir d'un circuit planaire à ondes lumineuses (PLC) comprenant au moins un composant à aligner en fonction de repères d'alignement. Le procédé contre les étapes suivantes: dépôt d'une couche à guide d'onde, définition d'un guide d'onde et d'au moins un repère d'alignement dans la couche à guide d'onde, gravure d'une tranchée pour l'intégration d'un composant optique, la gravure de la tranchée ayant pour effet d'éliminer au moins un repère d'alignement, la gravure définissant en outre une topographie faisant apparaître au moins un repère d'alignement, dépôt d'une couche à contacts métalliques, et alignement d'un composant avec le guide d'onde, le composant étant en contact avec la couche à contacts métalliques, l'alignement étant réalisé au moins partiellement en utilisant la topographie faisant apparaître au moins un repère d'alignement.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)