WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2005064407) LITHOGRAPHIC PROJECTION APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.: WO/2005/064407 International Application No.: PCT/IB2004/052690
Publication Date: 14.07.2005 International Filing Date: 07.12.2004
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
Applicants: DIRKSEN, Peter[NL/NL]; NL (UsOnly)
KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS N.V.[NL/NL]; Groenewoudseweg 1 NL-5621 BA Eindhoven, NL (AllExceptUS)
INTERUNIVERSITAIR MICROELEKTRONICA CENTRUM VZW[BE/BE]; Kapeldreef 75 B-3001 Leuven, BE (AllExceptUS)
Inventors: DIRKSEN, Peter; NL
Agent: ELEVELD, Koop, J.; Prof. Holstlaan 6 NL-5656 AA Eindhoven, NL
Priority Data:
03104868.922.12.2003EP
Title (EN) LITHOGRAPHIC PROJECTION APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) DISPOSITIF DE PROJECTION LITHOGRAPHIQUE, PROCEDE ET SUBSTRAT DESTINES A LA FABRICATION DE DISPOSITIFS ELECTRONIQUES ET DISPOSITIF ELECTRONIQUE AINSI OBTENU
Abstract: front page image
(EN) The invention proposes a lithographic projection device such as a wafer stepper for forming a pattern on a substrate or wafer, comprising a(n) (actinic) radiation or light source (2), illumination optics (4) for directing light issuing from said light source onto a mask (6) and projection optics (8) for directing diffracted radiation or light from said mask to the substrate/wafer to be imaged, wherein an optical filter (9) is provided downstream of said projection optics and an imageable substrate (7) having an optical filter (9) on the side to be imaged.
(FR) L'invention se rapporte à un dispositif de projection lithographique, tel qu'une aligneuse de masque à répétition de projection, permettant de réaliser un motif sur un substrat ou une tranche et comportant une source lumineuse ou de rayonnement (actinique) (2), un système optique d'éclairage (4) permettant de diriger la lumière provenant de ladite source lumineuse vers un masque (6) et un système optique de projection (8) permettant de diriger la lumière ou le rayonnement diffracté provenant dudit masque vers le substrat/la tranche à exposer à une image, un filtre optique (9) étant prévu en aval du système optique de projection. L'invention concerne également un substrat (7) sur lequel une image peut être formée, présentant un filtre optique (9) du côté destiné à être exposé à l'image.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)