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1. (WO2005062131) LITHOGRAPHIC APPARATUS AND METHOD OF MEASUREMENT
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2005/062131    International Application No.:    PCT/NL2004/000900
Publication Date: 07.07.2005 International Filing Date: 22.12.2004
IPC:
G03F 9/00 (2006.01)
Applicants: ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; De Run 6501, NL-5504 DR Veldhoven (NL) (For All Designated States Except US).
MODDERMAN, Theodorus, Marinus [NL/NL]; (NL) (For US Only).
VAN ASTEN, Nicolaas, Antonius, Allegondus, Johannes [NL/NL]; (NL) (For US Only).
NIJMEIJER, Gerrit, Johannes [NL/NL]; (NL) (For US Only).
VAN BOXMEER, Johan, Maria [NL/NL]; (NL) (For US Only)
Inventors: MODDERMAN, Theodorus, Marinus; (NL).
VAN ASTEN, Nicolaas, Antonius, Allegondus, Johannes; (NL).
NIJMEIJER, Gerrit, Johannes; (NL).
VAN BOXMEER, Johan, Maria; (NL)
Agent: VAN WESTENBRUGGE, Andries; Nederlandsch Octrooibureau, Scheveningseweg 82, P.O. Box 29720, NL-2502 LS The Hague (NL)
Priority Data:
10/740,824 22.12.2003 US
Title (EN) LITHOGRAPHIC APPARATUS AND METHOD OF MEASUREMENT
(FR) APPAREIL LITHOGRAPHIQUE ET PROCEDE DE MESURE
Abstract: front page image
(EN)A method of exposing a substrate (e.g. in a lithographic apparatus comprising a substrate table to support a substrate) according to one embodiment of the invention includes performing first and a second height measurement of a part of at least one substrate with a first and second sensor, generating and storing an offset error map based on a difference between the measurements; generating and storing a height map of portions of the substrate (or another substrate that has had a similar processing as the part) by performing height measurements with the first sensor and correcting this height map by means of the offset error map; and exposing the substrate (or the other substrate).
(FR)L'invention concerne un procédé d'exposition d'un substrat (par exemple, dans un appareil lithographique comprenant une table de substrat servant à soutenir une substrat). Selon un mode de réalisation, ledit procédé consiste à réaliser des première et seconde mesures de hauteur d'une partie d'au moins un substrat au moyen de premier et second détecteurs, à engendrer et à stocker une carte d'erreur de décalage reposant sur une différence entre les mesures, à engendrer et à stocker une carte de hauteur des parties du substrat (ou d'un autre substrat qui a subi un traitement similaire à celui de la partie) par prise de mesures de hauteur à l'aide du premier détecteur et par correction de cette carte de hauteurs au moyen de la carte d'erreurs de décalage et, enfin, à exposer le substrat (ou l'autre substrat).
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)