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1. (WO2005062101) PROJECTION OPTICAL SYSTEM AND EXPOSURE APPARATUS WITH THE SAME
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2005/062101    International Application No.:    PCT/JP2004/019097
Publication Date: 07.07.2005 International Filing Date: 21.12.2004
IPC:
G02B 17/06 (2006.01)
Applicants: NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331 (JP) (For All Designated States Except US).
TAKAHASHI, Tomowaki [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: TAKAHASHI, Tomowaki; (JP)
Agent: HASEGAWA, Yoshiki; SOEI PATENT AND LAW FIRM, Ginza First Bldg. 10-6, Ginza 1-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040061 (JP)
Priority Data:
2003-426617 24.12.2003 JP
Title (EN) PROJECTION OPTICAL SYSTEM AND EXPOSURE APPARATUS WITH THE SAME
(FR) SYSTEME OPTIQUE DE PROJECTION ET APPAREIL D'EXPOSITION EQUIPE DUDIT SYSTEME
(JA) 投影光学系および該投影光学系を備えた露光装置
Abstract: front page image
(EN)A projection optical system having eight reflecting mirrors and forming a reduced image of a first face (4) on a second face (7). The projection optical system has a first reflecting image forming optical system (G1) for forming an intermediate image of the first face and has a second reflecting image forming optical system (G2) for forming the intermediate image on the second face. The first reflecting image forming system has, from the first face side in the order of light incidence, a first reflecting mirror (M1), a second reflecting mirror (M2) having an aperture stop (AS), a third reflecting mirror (M3), and a fourth reflecting mirror (M4). The second reflecting image forming optical system (G2) has, from the first face side in the order of light incidence, a fifth reflecting mirror (M5), a sixth reflecting mirror (M6), a seventh reflecting mirror (M7), and a eighth reflecting mirror (M8). The structure above realizes a reflection-type projection optical system having excellent reflection characteristics even for X rays and capable of effectively correcting aberration with the reflecting mirrors prevented from increasing in size.
(FR)L'invention concerne un système optique de projection pourvu de huit miroirs de réflexion et formant une image réduite d'une première face (4) sur une seconde face (7). Le système optique de projection comprend un premier système optique (G1) de formation d'image de réflexion servant à former une image intermédiaire de la première face, et un second système optique (G2) de formation d'image de réflexion servant à former l'image intermédiaire sur la seconde face. Le premier système de formation d'image de réflexion comprend, à partir de la première face dans l'ordre d'incidence de la lumière, un premier miroir (M1) de réflexion, un deuxième miroir (M2) de réflexion, un diaphragme (AS), un troisième miroir (M3) de réflexion, et un quatrième miroir (M4) de réflexion. Le second système optique (G2) de formation d'image de réflexion comprend à partir de la première face dans l'ordre d'incidence de la lumière, un cinquième miroir (M5) de réflexion, un sixième miroir (M6) de réflexion, un septième miroir (M7) de réflexion, et un huitième miroir (M8) de réflexion. Ladite structure permet d'obtenir un système optique de projection à réflexion présentant d'excellentes caractéristiques de réflexion, y compris pour les rayons X, et pouvant corriger de manière efficace les aberrations sans que les miroirs de réflexion augmentent de taille.
(JA) 8つの反射鏡を備え、第1面(4)の縮小像を第2面(7)上に形成する投影光学系。第1面の中間像を形成するための第1反射結像光学系(G1)と、中間像の像を第2面上に形成するための第2反射結像光学系(G2)とを備えている。第1反射結像光学系は、第1面側から光の入射順に、第1反射鏡(M1)と開口絞り(AS)を備えた第2反射鏡(M2)と第3反射鏡(M3)と第4反射鏡(M4)とを有する。第2反射結像光学系は、第1面側から光の入射順に、第5反射鏡(M5)と第6反射鏡(M6)と第7反射鏡(M7)と第8反射鏡(M8)とを有する。これにより、X線に対しても良好な反射特性を有し、反射鏡の大型化を抑えつつ収差補正を良好に行うことのできる反射型の投影光学系が実現される。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)