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1. (WO2005041276) EXPOSURE APPARATUS, EXPOSURE METHOD, AND DEVICE PRODUCING METHOD
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請求の範囲

[I] 基板上の一部に液体を供給して液浸領域を形成し、前記液体を介して前記基板上 に所定のパターンを形成する露光装置にぉ、て、

前記液浸領域の外周に、前記基板上に液体の一部を保持可能な予備液浸領域が 形成されることを特徴とする露光装置。

[2] 投影光学系を有し、該投影光学系と前記基板との間に位置する液体及び前記投 影光学系を介して前記基板の露光を行うことで前記所定のパターンを形成し、 前記液浸領域及び前記予備液浸領域の液体は、前記投影光学系と前記基板とが 相対移動した際に、相対移動の方向に応じて、それぞれの領域の液体の一部が他 方の領域に移動することを特徴とする請求項 1に記載の露光装置。

[3] 前記予備液浸領域の液体は、前記液浸領域の外周に所定の間隔を空けて設けら れた液体保持部により保持されることを特徴とする請求項 1に記載の露光装置。

[4] 前記液体保持部は、前記投影光学系の下面に形成された略円環形の溝部の外周 に設けられることを特徴とする請求項 3に記載の露光装置。

[5] 前記液体保持部は、略円環形の壁部力なることを特徴とする請求項 3に記載の 露光装置。

[6] 前記液体保持部は、略円環形に配置された複数の突起部力なることを特徴とす る請求項 3に記載の露光装置。

[7] 前記液体保持部は、弾性材料により形成されることを特徴とする請求項 3に記載の 露光装置。

[8] 前記液体保持部が複数設けられることを特徴とする請求項 3に記載の露光装置。

[9] 前記液体保持部には、親液性領域が形成されることを特徴とする請求項 3に記載 の露光装置。

[10] 前記液体保持部の外周に前記液体を回収する液体回収部が設けられることを特徴 とする請求項 2に記載の露光装置。

[II] 前記溝部の底面に前記液体を回収する液体回収部が設けられることを特徴とする 請求項 4に記載の露光装置。

[12] 基板と投影光学系との間を液体で満たし、前記投影光学系と前記液体とを介して 前記基板上にパターン像を投影することによって前記基板を露光する露光装置であ つて、

前記投影光学系の投影領域を含み、露光動作中は常に前記液体で満たされる液 浸領域と、前記液浸領域の外周に設けられた予備液浸領域と、を備え、

前記予備液浸領域は、前記露光中、前記液体が存在する第 1領域と前記液体が 存在しない第 2領域が形成されるとともに、前記露光動作に伴って前記予備液浸領 域内における前記第 1領域と前記第 2領域の位置が変化することを特徴とする露光 装置。

[13] 投影光学系の投影領域を含む基板上の一部に液体を供給して液浸領域を形成し 、前記投影光学系と前記基板との間に位置する液体及び前記投影光学系を介して パターン像を前記基板上に投影して、前記基板を露光する露光方法にぉヽて、 前記液浸領域の外周に形成された予備液浸領域に、前記基板上に供給された液 体の一部を配置する工程を有することを特徴とする露光方法。

[14] 前記予備液浸領域に前記液体の一部を配置する工程は、前記基板の露光に先立 つて行われることを特徴とする請求項 13に記載の露光方法。

[15] 前記液浸領域及び前記予備液浸領域に前記液体を供給及び回収する工程を含 み、

前記液浸領域及び前記予備液浸領域に供給される液体量は、回収される液体量 よりも多いことを特徴とする請求項 13に記載の露光方法。

[16] 基板上の一部に液体を供給して液浸領域を形成し、前記液体を介してパターン像 を前記基板上に投影して該基板を露光する露光装置であって、

前記液浸領域は、前記パターン像が投影される領域を含む第 1領域と、該第 1領域 に隣接し、該第 1領域との間で前記液体が相互に移動可能な第 2領域と、を含むこと を特徴とする露光装置。

[17] 前記第 2領域が前記第 1領域の周囲に形成されるとともに、露光の際に前記基板が 移動する方向に応じて前記第 2領域で保持する液体の量が変化することを特徴とす る請求項 16記載の露光装置。

[18] 前記第 1領域と前記第 2領域との境界を規定する第 1の液体保持部と、前記第 1領 域とは接しな!/ヽ側で前記第 2領域を規定する第 2の液体保持部と、を備えることを特 徴とする請求項 16記載の露光装置。

[19] 前記第 1の液体保持部と前記第 2の液体保持部の少なくとも一方は、前記基板の 表面と交差する方向に延びた第 1の面と、該第 1の面と接し、前記基板と対向する第

2の面とを含むことを特徴とする請求項 18記載の露光装置。

[20] 前記第 1の液体保持部と前記第 2の液体保持部は、前記第 2領域が前記第 1領域 の周囲に形成されるとともに、露光の際に前記基板が移動する方向に応じて前記第

2領域で保持される液体の量が規定されるように配置されて、ることを特徴とする請 求項 18記載の露光装置。

[21] 前記液体は、前記第 2の液体保持部で気体と接して、ることを特徴とする請求項 1

8記載の露光装置。

[22] 前記基板と対向するように配置される液体保持部材を備え、

前記液体保持部材は、前記第 1の液体保持部と前記第 2の液体保持部とを含むと ともに、前記第 1の液体保持部と前記第 2の液体保持部との間で前記基板と対向す る面に形成された溝部を有することを特徴とする請求項 18記載の露光装置。

[23] 前記第 1の液体保持部と前記第 2の液体保持部との距離は、前記基板と前記液体 保持部材との間の距離の 5倍以上に設定されていることを特徴とする請求項 22記載 の露光装置。

[24] 前記液体保持部材には、前記液浸領域に液体を供給する液体供給口または前記 液浸領域力前記液体を回収する液体回収部の少なくとも一方が設けられているこ とを特徴とする請求項 22記載の露光装置。

[25] 前記液体供給口と前記液体回収部の少なくとも一方は、前記溝部に設けられて、 ることを特徴とする請求項 24記載の露光装置。

[26] 基板上の一部に液体を供給して液浸領域を形成し、前記液体を介してパターン像 を前記基板上に投影して該基板を露光する露光装置であって、

前記液浸領域を形成するための液体保持部材を備え、

前記液浸領域は、露光時に常に液体が保持される第 1領域と、露光時に前記液浸 保持部材との間で相対移動可能な第 2領域とを含むことを特徴とする露光装置。

[27] 前記液浸領域は、前記液体保持部材と前記液体との接触部によって規定され、前 記第 2領域の液体は前記接触部の周囲で気体と接してヽることを特徴とする請求項 26記載の露光装置。

[28] リソグラフイエ程を含むデバイスの製造方法にぉ、て、前記リソグラフイエ程に請求 項 1から請求項 12並びに請求項 16力も請求項 27のうちいずれか一項に記載の露 光装置、或いは請求項 13から請求項 15のうちいずれか一項に記載の露光方法を用 V、ることを特徴とするデバイスの製造方法。