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1. (WO2005036268) PHOTORESIST COMPOSITION
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.: WO/2005/036268 International Application No.: PCT/JP2004/014832
Publication Date: 21.04.2005 International Filing Date: 07.10.2004
IPC:
G03F 7/004 (2006.01)
Applicants: HOSAKA, Masaki[JP/JP]; JP (UsOnly)
HOMMA, Masatoshi[JP/JP]; JP (UsOnly)
ASAHI DENKA CO., LTD.[JP/JP]; 2-35, Higashiogu 7-chome, Arakawa-ku, Tokyo 1168553, JP (AllExceptUS)
Inventors: HOSAKA, Masaki; JP
HOMMA, Masatoshi; JP
Agent: SOGA, Michiteru; S. Soga & Co., 8th Floor, Kokusai Building, 1-1, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000005, JP
Priority Data:
2003-35372014.10.2003JP
Title (EN) PHOTORESIST COMPOSITION
(FR) COMPOSITION DE PHOTORESINE
(JA) フォトレジスト組成物
Abstract:
(EN) A photoresist composition characterized by comprising: a polyetherester represented by the general formula {RCOO(AO)a}mX{O(AO')bH}n (1) (wherein RCO represents the residue formed by removing the hydroxy group from a C6-22 fatty acid; X represents the residue formed by removing the hydroxy groups from a polyol having at least three hydroxy groups; AO and AO' each represents C2-4 oxyalkylene; a is 0 or a number of 1 or larger; b is a number of 1 or larger; and m and n each is a number of 1 or larger, provided that the sum of m and n is the same as the number of hydroxy groups contained in the polyol) as an ingredient (A); and an alkali-soluble resin having anionic groups or a modification of the resin as an ingredient (B).
(FR) composition de photorésine caractérisée en ce qu'elle comprend : un polyétherester représenté par la formule générale {RCOO(AO)a}mX{O(AO')bH}n (1) (dans laquelle RCO représente le résidu formé par suppression du groupe hydroxy d'un acide gras C6-22; X représente le résidu formé par la suppression des groupes hydroxy d'un polyol comprenant au moins trois groupes hydroxy; AO et AO' représentent chacun un oxyalkylène en C2-4; a vaut 0, 1 ou plus; b vaut 1 ou plus; et m et n valent chacun 1 ou plus, à condition que la somme de m et de n soit identique au nombre de groupes hydroxy contenus dans le polyol) en tant qu'ingrédient (A); et une résine soluble dans l'alcali comportant des groupes anioniques ou une modification de la résine en tant qu'ingrédient (B).
(JA)  本発明は、(A)成分として、下記の一般式(1){RCOO(AO)amX{O(AO')bH}n(1)(式中、RCOは炭素数6~22の脂肪酸から水酸基を除いた残基を表わし、Xは少なくとも3つの水酸基を有するポリオールから水酸基を除いた残基を表わし、AO及びAO'は炭素数2~4のオキシアルキレン基を表わし、aは0又は1以上の数を表わし、bは1以上の数を表わし、m及びnは1以上の数を表わす。但し、m及びnの合計は、前記ポリオールの水酸基の数と同数である。)で表わされるポリエーテルエステル;(B)成分として、アニオン性基を有するアルカリ可溶性樹脂又はその変性物を含有することを特徴とするフォトレジスト組成物にある。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)