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1. (WO2005036144) PRECISION CORRECTION OF REFLECTANCE MEASUREMENTS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2005/036144    International Application No.:    PCT/US2004/032008
Publication Date: 21.04.2005 International Filing Date: 29.09.2004
Chapter 2 Demand Filed:    03.05.2005    
IPC:
G01N 21/31 (2006.01), G01N 21/86 (2006.01)
Applicants: BAYER HEALTHCARE LLC [US/US]; 511 Benedict Avenue, Tarrytown, NY 10591 (US) (For All Designated States Except US).
ZIMMERLE, Chris, T. [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: ZIMMERLE, Chris, T.; (US)
Priority Data:
60/508,830 03.10.2003 US
Title (EN) PRECISION CORRECTION OF REFLECTANCE MEASUREMENTS
(FR) CORRECTION PRECISE DE MESURES DE FACTEUR DE REFLEXION
Abstract: front page image
(EN)A system and method of correcting reflectance comprises determining a reflectance constant for a test product at a first wavelength for which reflectance does not substantially change with the presence of a test substance, with the test product loaded with the test substance, determining a reflectance at a second wavelength for which signal-to-noise ratio is maximized and determining a measured reflectance at the first wavelength, and determining a corrected reflectance as the product of the reflectance with a ratio of the reflectance constant to the measured reflectance.
(FR)L'invention concerne un système et un procédé de correction de facteur de réflexion. Le procédé de l'invention consiste : à déterminer une constante de facteur de réflexion pour un produit d'essai à une première longueur d'onde pour laquelle le facteur de réflexion ne change sensiblement pas en présence d'une substance d'essai ; à déterminer, avec le produit d'essai chargé dans la substance d'essai, un facteur de réflexion à une deuxième longueur d'onde pour laquelle un rapport signal-bruit est maximisé et à déterminer un facteur de réflexion mesuré à la première longueur d'onde ; et à déterminer un facteur de réflexion corrigé en tant que produit du facteur de réflexion au moyen d'un rapport de la constante de facteur de réflexion sur le facteur de réflexion mesuré.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)