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1. (WO2005034148) INDEPENDENTLY ADDRESSABLE RESISTANCE MATRIXES AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2005/034148    International Application No.:    PCT/FR2004/050476
Publication Date: 14.04.2005 International Filing Date: 01.10.2004
Chapter 2 Demand Filed:    24.06.2005    
IPC:
H01C 1/16 (2006.01), H01C 13/02 (2006.01)
Applicants: COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE [FR/FR]; 31-33, rue de la Fédération, F-75752 Paris 15ème (FR) (For All Designated States Except US).
GASSE, Adrien [FR/FR]; (FR) (For US Only).
PARAT, Guy [FR/FR]; (FR) (For US Only)
Inventors: GASSE, Adrien; (FR).
PARAT, Guy; (FR)
Agent: POULIN, Gérard; Brevatome, 3, rue du Docteur Lancereaux, F-75008 Paris (FR)
Priority Data:
0350651 03.10.2003 FR
Title (EN) INDEPENDENTLY ADDRESSABLE RESISTANCE MATRIXES AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF
(FR) MATRICE DE RESISTANCES ADRESSABLES INDEPENDAMMENT, ET SON PROCEDE DE REALISATION
Abstract: front page image
(EN)The independently addressable matrixes are currently used to control miniature elements. The aim of the invention is to solve the problem caused by the loss of power dissipated in the addressed resistance by choosing a negative temperature coefficient resistance material in order to increase the addressing output of said resistance. The invention also relates to a method for the production thereof.
(FR)Les matrices de resistances adressables indépendamment sont couramment utilisées pour commander des éléments miniatures. L'invention se propose de résoudre le problème posé par la perte de puissance dissipée dans la résistance adressée en choisissant pour cette résistance un matériau à résistance à coefficient de temperature négatif, qui permet d'augmenter le rendement d'adressage de cette résistance. Une méthode de fabrication est également décrite.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: French (FR)
Filing Language: French (FR)