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Pub. No.: WO/2005/030849 International Application No.: PCT/JP2004/013860
Publication Date: 07.04.2005 International Filing Date: 15.09.2004
IPC:
C08J 9/36 (2006.01)
C CHEMISTRY; METALLURGY
08
ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
J
WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H142
9
Working-up of macromolecular substances to porous or cellular articles or materials; After-treatment thereof
36
After-treatment
Applicants: YAMATO, Yo[JP/JP]; JP (UsOnly)
TSUYUMOTO, Michio[JP/JP]; JP (UsOnly)
DAICEL CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.[JP/JP]; 1, Teppo-cho, Sakai-shi Osaka 5908501, JP (AllExceptUS)
Inventors: YAMATO, Yo; JP
TSUYUMOTO, Michio; JP
Agent: GOTO, Yukihisa; Masuda Bldg 202, 7-16, Higashitenma 2-chome Kita-ku, Osaka-shi Osaka 5300044, JP
Priority Data:
2003-33410825.09.2003JP
Title (EN) CHEMICAL-RESISTANT POROUS FILM
(FR) FILM POREUX RESISTANT AUX AGENTS CHIMIQUES
(JA) 耐薬品性を有する多孔性フィルム
Abstract:
(EN) A chemical-resistant porous film comprising a porous film substrate coated with a chemical-resistant polymeric compound, characterized in that the film has a multiplicity of micropores communicating with each other, the micropores having an average pore diameter of 0.01 to 10 μm. As the chemical-resistant polymeric compound, use can be made of, for example, a phenolic resin, a urea resin, a melamine resin, a benzoguanamine resin, a polyimide resin, an epoxy resin, a benzoxazine resin, a polypropylene resin, a polyurethane resin, a fluorinated resin, an alkyd resin, a cellulose acetate resin, a phthalic acid resin, a maleic acid resin, a silicon resin or the like.
(FR) L'invention concerne un film poreux résistant aux agents chimiques comprenant un substrat de film poreux revêtu d'un composé polymère résistant aux agents chimiques. L'invention se caractérise en ce que ce film comporte une multitude de micropores communiquant les uns avec les autres, ces micropores présentant un diamètre des pores moyen compris entre 0,01 et 10 $g(m)m. Comme composé polymère résistant aux agents chimiques, on peut utiliser, par exemple, une résine phénolique, une résine d'urée, une résine de mélamine, une résine de benzoguanamine, une résine de polyimide, une résine époxyde, une résine de benzoxazine, une résine de polypropylène, une résine de polyuréthane, une résine fluorée, une résine d'alkyde, une résine d'acétate de cellulose, une résine d'acide phtalique, une résine d'acide maléique, une résine de silicone ou analogue.
(JA) 本発明の耐薬品性を有する多孔性フィルムは、多孔性フィルム基材が耐薬品性高分子化合物により被覆されている多孔性フィルムであって、連通性を有する微小孔が多数存在し、該微小孔の平均孔径が0.01~10μmであることを特徴とする。前記耐薬品性高分子化合物としては、例えば、フェノール系樹脂、尿素系樹脂、メラミン系樹脂、ベンゾグアナミン系樹脂、ポリイミド系樹脂、エポキシ系樹脂、ベンゾオキサジン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリウレタン系樹脂、フッ素系樹脂、アルキド系樹脂、酢酸セルロース系樹脂、フタル酸系樹脂、マレイン酸系樹脂、及びケイ素系樹脂等を利用できる。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)