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1. (WO2005030663) TRANSPARENT SUBSTRATE COMPRISING AN ANTI-REFLECTIVE STACK OF LAYERS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2005/030663    International Application No.:    PCT/EP2004/052351
Publication Date: 07.04.2005 International Filing Date: 29.09.2004
IPC:
C03C 17/34 (2006.01), G02B 1/11 (2006.01)
Applicants: GLAVERBEL [BE/BE]; Glaverbel, Chaussée de La Hulpe, 166, B-1170 Bruxelles (BE) (For All Designated States Except US).
HEVESI, Kadosa [BE/BE]; (BE) (For US Only).
ANDO, Eiichi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
MITSUI, Akira [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: HEVESI, Kadosa; (BE).
ANDO, Eiichi; (JP).
MITSUI, Akira; (JP)
Agent: VANDEBERG, Marie-Paule; Glaverbel - Centre R & D, Department Intellectual Property, Rue de l'Aurore, 2, B-6040 Jumet (BE)
Priority Data:
03103596.7 29.09.2003 EP
Title (EN) TRANSPARENT SUBSTRATE COMPRISING AN ANTI-REFLECTIVE STACK OF LAYERS
(FR) SUBSTRAT TRANSPARENT COMPRENANT UN EMPILEMENT ANTIREFLECHISSANT DE COUCHES
Abstract: front page image
(EN)A transparent substrate, in particular of glass, coated with a stack of layers that is anti-reflective in visible light is described. This stack comprises: i) a layer of dielectric materials with a high refractive index ii) a layer of dielectric materials with a low refractive index iii) a layer of dielectric materials with a high refractive index iv) a layer of dielectric materials with a low refractive index composed of a doped silicon oxide. The layers are deposited using a vacuum deposition process, in particular magnetically enhanced sputtering. The coated substrate has an improved mechanical strength.
(FR)L'invention concerne un substrat transparent, en particulier en verre, revêtu par un empilement de couches qui est antiréfléchissant à la lumière visible. Cet empilement comprend : i) une couche de matériaux diélectriques à fort indice de réflexion ; ii) une couche de matériaux diélectriques à faible indice de réflexion ; iii) une couche de matériaux diélectriques à fort indice de réflexion ; iv) une couche de matériaux diélectriques à faible indice de réflexion composée d'un oxyde de silicium dopé. Les couches sont déposées par un procédé de dépôt par évaporation sous vide, en particulier par pulvérisation améliorée de manière magnétique. Le substrat revêtu présente une résistance mécanique améliorée.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)