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1. (WO2005030366) METHOD FOR THE PURIFICATION OF SULPHUR HEXAFLUORIDE GAS MIXTURES BY MEANS OF PHOTOLYSIS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2005/030366    International Application No.:    PCT/EP2004/010671
Publication Date: 07.04.2005 International Filing Date: 23.09.2004
IPC:
B01D 53/00 (2006.01)
Applicants: SOLVAY FLUOR GMBH [DE/DE]; Hans-Böckler-Allee 20, 30173 Hannover (DE) (For All Designated States Except US).
BELT, Heinz-Joachim [NL/DE]; (DE) (For US Only).
SCHWARZE, Thomas [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Inventors: BELT, Heinz-Joachim; (DE).
SCHWARZE, Thomas; (DE)
Agent: KULIK, Angelika; Solvay Fluor GmbH, Hans-Böckler-Allee 20, 30173 Hannover (DE)
Priority Data:
103 44 738.5 26.09.2003 DE
Title (DE) VERFAHREN ZUR REINIGUNG VON SCHWEFELHEXAFLUORID-GASGEMISCHEN MITTELS PHOTOLYSE
(EN) METHOD FOR THE PURIFICATION OF SULPHUR HEXAFLUORIDE GAS MIXTURES BY MEANS OF PHOTOLYSIS
(FR) PROCEDE D'EPURATION DE MELANGES GAZEUX D'HEXAFLUORURE DE SOUFRE
Abstract: front page image
(DE)Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Reinigung von Schwefelhexafluorid. Schwefelhexafluorid findet z. B. in Produktionsanlagen, in elektrischen Schaltanlagen oder gasisolierten Leitungen als Schutz-, Isolier- und Lichtbogenlöschgas Anwendung. Das verunreinigte Schwefelhexafluorid-Gasgemisch wird durch an sich bekannte Verfahrensstufen wie Gaswäsche, Adsorption und/oder Membrantrennung gereinigt, wobei erfindungsgemäss das Gasgemisch einer zusätzlichen photolytischen Behandlung unterworfen wird. Erfindungsgemäss wird das in Hochspannungsversuchen durch elektrische Durchschläge gebildete hochtoxische S2F10 photolytisch zerstört. Die photolytische Behandlung erfolgt mit UV-Licht einer Wellenlänge von ca. 250 µm.
(EN)The invention relates to a method for the purification of sulphur hexafluoride. Sulphur hexafluoride finds application, for example, in production plants, in electrical switchgear or gas-insulated lines as protective, insulating and arc-extinguishing gas. The unpurified sulphur hexafluoride gas mixture is purified by conventional means such as gas scrubbing, adsorption and/or membrane separation and, according to the invention, is subjected to an additional photolytic treatment, in which the highly toxic S2F10 formed in high voltage processes by electrical discharges is photolytically destroyed. The photolytic treatment is carried out with UV light at a wavelength of ca. 250 µm.
(FR)L'invention concerne un procédé d'épuration d'hexafluorure de soufre. On trouve l'hexafluorure de soufre, par exemple, dans des installations de production, des installations de distribution électrique ou dans des conduites à isolation au gaz, et dans des applications où il est utilisé comme gaz protecteur, gaz isolant et gaz d'extinction d'arc. Le mélange gazeux d'hexafluorure de soufre impur est épuré par différents stades connus de procédé, tels que lavage du gaz, adsorption et/ou séparation par membrane. Conformément à l'invention, le mélange gazeux est soumis à un traitement supplémentaire photolytique. Egalement selon l'invention, le S2F10 d'une haute toxicité, formé par claquages électriques lors d'essai à haute tension, est détruit par photolyse. Le traitement photolytique s'effectue en lumière UV de longueur d'onde d'environ 250 $g(m)m.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: German (DE)
Filing Language: German (DE)