WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2005017985) GAS-SUPPLY ASSEMBLY, IN PARTICULAR FOR A CVD PROCESS REACTOR FOR GROWING AN EPITAXIAL LAYER
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2005/017985    International Application No.:    PCT/EP2004/051646
Publication Date: 24.02.2005 International Filing Date: 28.07.2004
Chapter 2 Demand Filed:    19.05.2005    
IPC:
B01F 3/02 (2006.01), C30B 25/02 (2006.01), C30B 25/14 (2006.01)
Applicants: INFINEON TECHNOLOGIES AG [DE/DE]; St.-Martin-Str. 53, 81669 München (DE) (For All Designated States Except US).
BAUMGARTL, Johannes [DE/AT]; (AT) (For US Only).
KOGLER, Rudolf [AT/AT]; (AT) (For US Only).
VALLANT, Thomas [AT/AT]; (AT) (For US Only)
Inventors: BAUMGARTL, Johannes; (AT).
KOGLER, Rudolf; (AT).
VALLANT, Thomas; (AT)
Agent: KARL, Frank; Patentanwälte Kindermann, P.O. Box 100234, 85593 Baldham (DE)
Priority Data:
103 37 568.6 14.08.2003 DE
Title (DE) GASVERSORGUNGSANORDNUNG, INSBESONDERE FÜR EINEN CVD-PROZESSREAKTOR ZUM AUFWACHSEN EINER EPITAXIESCHICHT
(EN) GAS-SUPPLY ASSEMBLY, IN PARTICULAR FOR A CVD PROCESS REACTOR FOR GROWING AN EPITAXIAL LAYER
(FR) DISPOSITIF D'ALIMENTATION, EN PARTICULIER POUR UN REACTEUR DE DEPOT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR UTILISE POUR LA CROISSANCE D'UNE COUCHE EPITAXIALE
Abstract: front page image
(DE)Erläutert wird u.a. eine Gasversorgungsanordnung (10) für einen Prozessreaktor (270). Die Gasversorgungsanordnung (10) enthält mindestens eine Umschalteinheit (420), eine Prozessgasleitung (470) und eine Hilfsleitung (460). Der Prozessreaktor (270) enthält mindestens einen Gaseinlassanschluss (404). Eine Reaktorleitung (450) liegt zwischen der Umschalteinheit (420) und dem Gaseinlassanschluss (404). Die Reaktorleitung (450) ist kürzer als ein Meter, wodurch hervorragende Betriebseigenschaften der Gasversorgungsanordnung (10) entstehen.
(EN)The invention relates to a gas-supply assembly (10) for a process reactor (270). The gas-supply assembly (10) contains at least one changeover unit (420), a process-gas line (470) and an auxiliary line (460). The process reactor (270) contains at least one gas-inlet connection (404). A reactor line (450) lies between the changeover unit (420) and the gas-inlet connection (404). The reactor line (450) is shorter than one metre, producing excellent operating characteristics for the gas-supply assembly.
(FR)L'invention concerne, entre autres, un dispositif d'alimentation en gaz (10) destiné à un réacteur de traitement (270). Ce dispositif d'alimentation en gaz (10) comprend au moins une unité d'inversion (420), une conduite de gaz de traitement (470) et une conduite auxiliaire (460). Ledit réacteur (270) comporte au moins un raccord d'entrée de gaz (404). Une conduite de réacteur (450) est placée entre l'unité d'inversion (420) et le raccord d'entrée de gaz (404). La conduite de réacteur (450) est d'une longueur inférieure à un mètre, ce qui permet d'obtenir d'excellentes caractéristiques de fonctionnement du dispositif d'alimentation en gaz (10) présenté.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: German (DE)
Filing Language: German (DE)