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1. (WO2005017625) METHOD AND APPARATUS FOR MONITORING AND CONTROLLING IMAGING IN IMMERSION LITHOGRAPHY SYSTEMS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2005/017625    International Application No.:    PCT/US2004/023875
Publication Date: 24.02.2005 International Filing Date: 23.07.2004
Chapter 2 Demand Filed:    09.03.2005    
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
Applicants: ADVANCED MICRO DEVICES, INC. [US/US]; One AMD Place, Mail Stop 68, P.O. Box 3453, Sunnyvale, CA 94088-3453 (US) (For All Designated States Except US).
LEVINSON, Harry, J. [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: LEVINSON, Harry, J.; (US)
Agent: COLLOPY, Daniel, R.; One AMD Place, Mail Stop 68, P.O. Box 3453, Sunnyvale, CA 94088-3453 (US).
WRIGHT, hugh R.; Brookes Batchellor LLP, 102-108 Clerkenwell Road, London, EC1M 5SA, United Kingdom (GB)
Priority Data:
10/638,927 11.08.2003 US
Title (EN) METHOD AND APPARATUS FOR MONITORING AND CONTROLLING IMAGING IN IMMERSION LITHOGRAPHY SYSTEMS
(FR) PROCEDE ET APPAREIL DE CONTROLE ET DE COMMANDE D'IMAGERIE DANS DES SYSTEMES DE LITHOGRAPHIE PAR IMMERSION
Abstract: front page image
(EN)A method of monitoring an immersion lithography system (10) in which a wafer (12) can be immersed in a liquid immersion medium (22) for exposure by an exposure pattern. The method detects the presence of a foreign body in the immersion medium to thereby determine if the immersion medium in a state that is acceptable for exposing the wafer with the exposure pattern. Also disclosed is a monitoring and control system (26) for an immersion lithography system.
(FR)La présente invention se rapporte à un procédé permettant de contrôler un système de lithographie par immersion (10), qui consiste : à immerger une tranche (12) dans un milieu d'immersion liquide (22) afin qu'elle soit exposée à l'aide d'un motif d'exposition ; et à détecter la présence d'un corps étranger dans le milieu d'immersion, afin que l'on détermine si l'état du milieu d'immersion est propice à l'exposition de la tranche avec le motif d'exposition. L'invention concerne également un système de contrôle et de commande (26) pour système de lithographie par immersion.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)