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1. (WO2005017621) METHOD OF PRODUCING PHASE SHIFT MASKS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2005/017621    International Application No.:    PCT/JP2004/011712
Publication Date: 24.02.2005 International Filing Date: 09.08.2004
IPC:
G03F 1/29 (2012.01), G03F 1/68 (2012.01), G03F 7/40 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Applicants: HOYA CORPORATION [JP/JP]; 7-5, Naka-Ochiai 2-chome Shinjuku-ku, Tokyo 1618525 (JP) (For All Designated States Except US).
SUDA, Hideki [JP/JP]; (For US Only)
Inventors: SUDA, Hideki;
Agent: GOTO, Yosuke; The Third Mori Building 4-10, Nishishinbashi 1-chome Minato-ku, Tokyo 1050003 (JP)
Priority Data:
2003-293835 15.08.2003 JP
Title (EN) METHOD OF PRODUCING PHASE SHIFT MASKS
(FR) PROCEDE DE PRODUCTION DE MASQUES A DEPHASAGE
(JA) 位相シフトマスクの製造方法
Abstract: front page image
(EN)In a first step, an etching mask layer (3a) and a light-shielding film (2) are etched to form an etching mask layer (3a) consisting of a main opening (5) and auxiliary openings (6), and a light-shielding film pattern (2a). Then, in a second step, impression etching of a transparent substrate (formation of a substrate impressed section (8)) is effected, and in a final third step, the etching mask layer (3a) is removed. Thereby, since the main and auxiliary openings can be simultaneously exposed to light in the first step, the accuracy of positioning of them is improved. Further, the etching mask layer (3a), which is damaged in the second step, is removed in the third step. That is, the etching mask layer (3a) can protect the light-shielding film pattern (2a), thus preventing the light-shielding film pattern (2a) from being damaged.
(FR)Selon l'invention, au cours d'une première étape, une couche masque de gravure (3a) et un film de protection contre la lumière (2) sont gravés de sorte à former une couche masque de gravure (3a) constituée d'une ouverture principale (5) et d'ouvertures auxiliaires (6), ainsi qu'un motif de film de protection contre la lumière (2a). Puis, au cours d'une deuxième étape, une gravure d'impression est réalisée sur un substrat transparent (formation d'une partie imprimée de substrat (8)). Enfin, au cours d'une troisième et dernière étape, la couche masque de gravure (3a) est retirée. La présente invention permet donc d'améliorer la précision de positionnement des ouvertures principale et auxiliaires par l'exposition simultanée de ces ouvertures à la lumière, pendant la première étape. De plus, la couche masque de gravure (3a), endommagée pendant la deuxième étape, est retirée au cours de la troisième étape, ladite couche (3a) protégeant ainsi le motif de film de protection contre la lumière (2a), ce qui empêche qu'il soit endommagé.
(JA)not available
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)