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1. (WO2005017449) COMPENSATION FOR ERRORS IN OFF-AXIS INTERFEROMETRIC MEASUREMENTS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2005/017449    International Application No.:    PCT/US2003/038215
Publication Date: 24.02.2005 International Filing Date: 03.12.2003
IPC:
G01B 9/02 (2006.01), G01B 11/02 (2006.01), G01B 11/24 (2006.01), G01B 11/30 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
Applicants: ZYGO CORPORATION [US/US]; 21 Laurel Brook Road, Middlefield, CT 06455-0448 (US) (For All Designated States Except US).
HILL, Henry, A. [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: HILL, Henry, A.; (US)
Agent: FEIGENBAUM, David, L.; Fish & Richardson P.C., 225 Franklin Street, Boston, MA 02110-2804 (US)
Priority Data:
10/630,361 29.07.2003 US
60/517,426 04.11.2003 US
Title (EN) COMPENSATION FOR ERRORS IN OFF-AXIS INTERFEROMETRIC MEASUREMENTS
(FR) COMPENSATION D'ERREURS DANS DES MESURES INTERFEROMETRIQUES HORS-AXE
Abstract: front page image
(EN)In general, in a first aspect, the invention features a method for determining the location of an alignment mark on a stage, which includes directing a measurement beam along a path between an interferometer and a mirror, wherein at least the interferometer or the mirror is mounted on the stage, combining the measurement beam with another beam to produce an output beam comprising information about the location of the stage, measuring from the output beam a location, x1, of the stage along a first measurement axis, measuring a location, x2, of the stage along a second measurement axis substantially parallel to the first measurement axis, calculating a correction term, ψ3, from predetermined information characterizing surface variations of the mirror for different spatial frequencies, wherein contributions to the correction term from different spatial frequencies are weighted differently, and determining a location of the alignment mark along a third axis parallel to the first measurement axis based on x1, x2, and the correction term.
(FR)Cette invention concerne, d'une manière générale et selon un premier aspect, un procédé visant à déterminer l'emplacement d'un repère d'alignement sur une platine, lequel procédé consiste à diriger un faisceau de mesure sur un trajet allant d'un interféromètre à un miroir, au moins l'interféromètre ou le miroir étant monté sur la platine ; à combiner le faisceau de mesure avec un autre faisceau pour produire un faisceau de sortie comprenant des données relatives à l'emplacement de la platine ; à mesurer, à partir du faisceau de sortie, un emplacement x1 de la platine le long d'un premier axe de mesure ; à mesurer un emplacement x2 de la platine le long d'un deuxième axe de mesure qui est sensiblement parallèle au premier axe de mesure ; à calculer un terme correctif $g(C)3 à partir des données prédéterminées caractérisant les variations de surface du miroir pour différentes fréquences spatiales, les contributions apportées au terme correctif pour différentes fréquences spatiales étant pondérées différemment ; puis à déterminer un emplacement du repère d'alignement le long d'un troisième axe parallèle au premier axe de mesure sur la base de x1, x2 et du terme correctif.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)