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1. (WO2005016939) SILOXANE DERIVATIVES OF 1,3-OXATHIOLANE-2-THIONES, THEIR PREPATATION AND USE THEREOF
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2005/016939    International Application No.:    PCT/EP2004/008932
Publication Date: 24.02.2005 International Filing Date: 10.08.2004
IPC:
C07F 7/18 (2006.01), C08G 75/14 (2006.01), C08G 75/28 (2006.01), C08G 77/28 (2006.01)
Applicants: HENKEL KOMMANDITGESELLSCHAFT AUF AKTIEN [DE/DE]; Henkelstrasse 67, 40589 Dusseldorf (DE) (For All Designated States Except US).
UENISHI, Kazuya [JP/JP]; (JP) (For US Only).
SUDO, Atsushi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
MORIKAWA, Hiroshi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
GENTSCHEV, Pavel [DE/DE]; (DE) (For US Only).
LAMMERSCHOP, Olaf [DE/US]; (US) (For US Only).
HUVER, Thomas [DE/DE]; (DE) (For US Only).
ENDO, Takeshi [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: UENISHI, Kazuya; (JP).
SUDO, Atsushi; (JP).
MORIKAWA, Hiroshi; (JP).
GENTSCHEV, Pavel; (DE).
LAMMERSCHOP, Olaf; (US).
HUVER, Thomas; (DE).
ENDO, Takeshi; (JP)
Priority Data:
03018504.5 15.08.2003 EP
PCT/EP04/003602 05.04.2004 EP
Title (EN) SILOXANE DERIVATIVES OF 1,3-OXATHIOLANE-2-THIONES, THEIR PREPATATION AND USE THEREOF
(FR) NOUVEAUX COMPOSES A BASE DE 1,3-OXATHIOLANE-2-THIONE, LEUR ELABORATION ET LEUR UTILISATION
Abstract: front page image
(EN)The present invention relates to, 1,3-oxathiolane-2-thione compounds of the general formula (I): wherein R1 and R2 are the same or different, each of which denotes a straightchain or branched alkoxy residue with 1 to 6 carbon atoms or an aryloxy or aralkyloxy residue, R3 is different or the same as R1 or R2 or an aliphatic residue, an amino residue, a halogen residue, an aromatic or heteroaromatic residue, or an araliphatic or heteroaraliphatic residue, R4 is a bridging group selected from the groups consisting of aliphatic, heteroaliphatic, araliphatic, heteroaraliphatic, aromatic and heteroaromatic groups and R5 is hydrogen, an aliphatic, heteroaliphatic, araliphatic, heteroaraliphatic, aromatic, heteroaromatic, cycloaliphatic or heterocycloaliphatic group or R4 and R5 form a cycloaliphatic, cycloheteroaliphatic, aromatic or heteroaromatic residue, which is optionally substituted with an aliphatic, heteroaliphatic residue serving as a bridging group to the silicone atom and X and Y are different and selected from oxygen and sulfur and mixtures of such compounds. A further objective is to provide a method of production of such compounds, compounds synthesized from the 1,3-oxathiolane2-thiones and their use in a variety of coating and bonding applications.
(FR)La présente invention concerne des composés à base de 1,3-oxathiolane-2-thione représentés par la formule générale (I). Dans cette formule, R1 et R2 sont identiques ou différents, représentant un résidu alcoxy droit ou ramifié en C1-C6, ou un résidu araloxy ou aralkyloxy. R3 est identique à ou différent de R1 ou R2, ou un résidu aliphatique, halogène; aromatique ou hétéroaromatique, ou araliphatique ou hétéroaraliphatique. R4 est un groupe passerelle sélectionné dans les groupes constitués des groupes aliphatiques hétéroaliphatiques, araliphatiques, hétéroaraliphatiques, aromatiques et hétéroaromatiques. Enfin, R5 est hydrogène ou un groupe aliphatique, hétéroaliphatique, araliphatique, hétéroaraliphatique, aromatique, hétéroaromatique, cycloaliphatique ou hétérocycloaliphatique. Mais il est également possible que R4 et R5 forment un résidu cycloaliphatique, cyclohétéroaliphatique, aromatique ou hétéroaromatique éventuellement substitué par un résidu aliphatique ou hétéroaliphatique servant de groupe passerelle à l'atome de silicium. Enfin, X et Y, qui sont différents, sont choisis dans le groupe de l'oxygène et du soufre. L'invention concerne également des mélanges de tels composés. L'invention concerne enfin, d'une part un procédé de production de tels composés, des composés synthétisés à partir de 1,3-oxathiolane2-thiones, et d'autre part diverses applications de revêtement et de collage.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)