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1. (WO2005015316) PROJECTION OBJECTIVE FOR MICROLITHOGRAPHY
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2005/015316    International Application No.:    PCT/EP2004/008220
Publication Date: 17.02.2005 International Filing Date: 23.07.2004
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
Applicants: CARL ZEISS SMT AG [DE/DE]; Carl-Zeiss-Strasse 22, 73447 Oberkochen (DE) (For All Designated States Except US).
SHAFER, David [US/US]; (US) (For US Only).
EPPLE, Alexander [DE/DE]; (DE) (For US Only).
ULRICH, Wilhelm [DE/DE]; (DE) (For US Only).
BEIERL, Helmut [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Inventors: SHAFER, David; (US).
EPPLE, Alexander; (DE).
ULRICH, Wilhelm; (DE).
BEIERL, Helmut; (DE)
Agent: RUFF, WILHELM, BEIER, DAUSTER & PARTNER; Kronenstrasse 30, 70174 Stuttgart (DE)
Priority Data:
60/494,123 12.08.2003 US
Title (EN) PROJECTION OBJECTIVE FOR MICROLITHOGRAPHY
(FR) OBJECTIF DE PROJECTION POUR LA MICROLITHOGRAPHIE
Abstract: front page image
(EN)A projection objective for projecting a pattern of a mask arranged in an object plane of the projection objective into an image plane of the projection objective has a pupil surface (11) near the image plane, a radiance transformation group (100) that is arranged at a distance upstream of the image plane (4); and an aperture-generating group (200) arranged downstream of the radiance transformation group. The radiance transformation group is designed to transform an input radiance distribution with a uniform angular radiance that is substantially independent of beam height into an output radiance distribution with a nonuniform angular radiance that is dependent on beam height, wherein the angular radiance decreases with increasing beam height, at least in a region near a maximum beam height. The output radiance distribution is adapted to beam guidance properties of the aperture-generating group in such a way that the sine condition is substantially fulfilled in the image plane for all beams of the input light distribution.
(FR)L'invention concerne un objectif de projection permettant de projeter un motif de masque disposé dans un plan d'objet dudit objectif dans un plan d'image de l'objectif. L'objectif de projection selon l'invention comprend : une surface pupille (11) située à proximité du plan d'image ; un groupe de transformation de luminance énergétique (100) disposé à distance, en amont du plan d'image (4) ; et un groupe de formation d'ouverture (200) disposé en aval du groupe de transformation de luminance énergétique. Ce dernier est conçu pour transformer une répartition de luminance énergétique d'entrée, présentant une luminance angulaire uniforme sensiblement indépendante de la hauteur de faisceau, en une répartition de luminance de sortie présentant une luminance angulaire non uniforme dépendante de la hauteur de faisceau, la luminance énergétique angulaire diminuant lorsque la hauteur de faisceau augmente, au moins dans une zone située à proximité d'une hauteur de faisceau maximum. La répartition de la luminance énergétique de sortie est conçue pour présenter des propriétés de guidage par faisceau du groupe de formation d'ouverture, de sorte que la condition des sinus soit sensiblement remplie dans le plan d'image pour tous les faisceaux de la répartition de lumière d'entrée.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)