WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2005015314) AN ILLUMINATION SYSTEM FOR MICROLITHOGRAPHY
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2005/015314    International Application No.:    PCT/EP2004/003854
Publication Date: 17.02.2005 International Filing Date: 13.04.2004
IPC:
G02B 17/06 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01), G21K 1/06 (2006.01)
Applicants: CARL ZEISS SMT AG [DE/DE]; Carl-Zeiss-Stasse 22, 73447 Oberkochen (DE) (For All Designated States Except US).
SINGER, Wolfgang [DE/DE]; (DE) (For US Only).
WIETZORREK, Joachim [DE/DE]; (DE) (For US Only).
HAINZ, Joachim [DE/DE]; (DE) (For US Only).
WEIRAUCH, Gabriele [DE/DE]; (DE) (For US Only).
MAUL, Manfred [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Inventors: SINGER, Wolfgang; (DE).
WIETZORREK, Joachim; (DE).
HAINZ, Joachim; (DE).
WEIRAUCH, Gabriele; (DE).
MAUL, Manfred; (DE)
Agent: WEITZEL & PARTNER; Friedenstr. 10, 89522 Heidenheim (DE)
Priority Data:
103 34 722.4 30.07.2003 DE
Title (EN) AN ILLUMINATION SYSTEM FOR MICROLITHOGRAPHY
(FR) SYSTEME D'ECLAIRAGE POUR MICROLITHOGRAPHIE
Abstract: front page image
(EN)The present invention relates to an illumination system for microlithography, especially for wavelengths ≤ 193 nm, especially preferably for EUV lithography for illuminating a field in a field plane (9) with at least one optical integrator (3) which splits up a light bundle emitted by a light source into a plurality of light channels each having a light intensity, characterized in that a filter (23) is provided in the light path from the light source to the field plane (9), with the filter comprising filter elements which are configured in such a way that the light intensity of at least one light channel is reduced in the light path after the filter element.
(FR)L'invention concerne un système d'éclairage pour microlithographie, utile en particulier pour des longueurs d'ondes = 193 nm et de préférence dans la lithographie par UV extrême, pour éclairer un champ dans un plan de champ à l'aide d'au moins un intégrateur optique ; ce dernier divise un faisceau lumineux émis par une source lumineuse en une pluralité de canaux lumineux présentant chacun une intensité lumineuse. Le système est caractérisé en ce qu'il comporte un filtre placé dans le trajet lumineux, entre la source lumineuse et le plan de champ, ce filtre comprenant des éléments de filtre conçus pour réduire l'intensité lumineuse d'au moins un canal dans le trajet lumineux, en aval de l'élément de filtre.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)