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Considered void 2005-10-19 00:00:00.0

Pub. No.:    WO/2005/014057    International Application No.:    PCT/US2004/019306
Publication Date: 17.02.2005 International Filing Date: 17.06.2004
A61L 2/18 (2006.01), A61L 2/22 (2006.01), C11D 3/20 (2006.01), C11D 3/39 (2006.01)
Applicants: 3M INNOVATIVE PROPERTIES COMPANY [US/US]; 3M Center, Post Office Box 33427, Saint Paul, MN 55133-3427 (US)
Inventors: HOBBS, Terry, R.; (US).
ANDREWS, Jeffrey, F.; (US).
CZECHOWICZ, Sophia, M.; (US).
Agent: PASTIRIK, Daniel, R.; Office of Intellectual Property Counsel, Post Office Box 33427, Saint Paul, MN 55133-3427 (US)
Priority Data:
10/625,271 23.07.2003 US
Abstract: front page image
(EN)The present invention provides a composition, comprising: greater than about 0.1% by weight hydrogen peroxide; an aromatic acid component; surfactant; optionally, a solvent; and a carrier. The composition of the invention is useful as a disinfecting composition for killing microorganisms such as bacterium (including <i>Mycobacterium</i>), spores and fungi. The composition provides a pathogenic bacteria kill rate of 99.9% in about 30 seconds when bacteria are exposed to the composition and is effective in providing a <i>Mycobacterium</i> kill of 106 with two minutes or less. Moreover, the compositions of the invention are generally more resistant to catalase deactivation than, for example, an aqueous solution of hydrogen peroxide. The concentration of hydrogen peroxide within the composition may range from about 1% by weight to about 7% by weight and the concentration of aromatic acid component may range from about 0.1% by weight to about 5% by weight. The invention also provides a method for disinfection of a substrate utilizing the composition. The composition of the invention may be used in the foregoing method on a medical instrument, such as an endoscope or the like. Applying the compositions to a substrate may be accomplished in any of a variety of application methods such as by roll coating, dipping, spraying, or rotational tumbling. The composition may be applied to the substrate for a period of time ranging from about 30 seconds to about ten minutes. In this aspect, the invention can further comprise drying the substrate after removing the composition.
(FR)La présente invention porte sur une composition comprenant plus d'environ 0,1 % en poids de peroxyde d'hydrogène; un composant acide aromatique; un tensioactif; éventuellement, un solvant et un excipient. La composition de l'invention est utile comme composition désinfectante pour éliminer des micro-organismes tels que des bactéries (y compris Mycobacterium), les spores et les champignons. Le taux d'élimination des bactéries pathogènes est de 99,9 % sur environ 30 secondes lorsque les bactéries sont exposées à la composition, ladite composition étant efficace en ce qu'elle assure une élimination de Mycobacterium de 106 en deux minutes ou moins. En outre, les compositions de l'invention sont généralement plus résistantes à la désactivation de la catalase que, par exemple, une solution aqueuse de peroxyde d'hydrogène. La concentration du peroxyde d'hydrogène dans la composition peut être comprise entre environ 1 % en poids et environ 7 % en poids, et la concentration du composant acide aromatique peut être comprise entre environ 0,1 % en poids et environ 5 % en poids. L'invention porte également sur un procédé de désinfection d'un substrat à l'aide de la composition. La composition peut être appliquée sur un instrument médical tel qu'un endoscope ou analogue. L'application des compositions sur un substrat peut être réalisée dans n'importe quel type de procédés d'application tels que le revêtement au rouleau, le trempé, la pulvérisation ou le tonnelage. La composition peut être appliquée sur le substrat sur une durée comprise entre environ 30 secondes et environ 10 minutes. Selon cette variante, l'invention peut également consister à sécher le substrat après élimination de la composition.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)