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1. (WO2005013313) DEVICE FOR MEASURING AND QUANTITATIVE PROFILING OF CHARGED PARTICLE BEAMS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2005/013313    International Application No.:    PCT/IN2003/000260
Publication Date: 10.02.2005 International Filing Date: 01.08.2003
Chapter 2 Demand Filed:    20.12.2004    
IPC:
H01J 49/04 (2006.01)
Applicants: SECRETARY, DEPARTMENT OF ATOMIC ENERGY [IN/IN]; Government of India, Anushakti Bhavan, Chhatrapati Shivaji Maharaj Marg, Mumbai 400 039 (IN) (For All Designated States Except US).
HALBE, Shripad, Rajaram [IN/IN]; (IN) (For US Only).
SAHNI, Vinod, Chandra [IN/IN]; (IN) (For US Only)
Inventors: HALBE, Shripad, Rajaram; (IN).
SAHNI, Vinod, Chandra; (IN)
Agent: MAJUMDAR, S.; S. Majumdar & Co., 5, Harish Mukherjee Road, Kolkata 700 025 (IN)
Priority Data:
Title (EN) DEVICE FOR MEASURING AND QUANTITATIVE PROFILING OF CHARGED PARTICLE BEAMS
(FR) DISPOSITIF PERMETTANT DE MESURER DES FAISCEAUX DE PARTICULES CHARGEES ET D'EN ETABLIR UN PROFIL QUANTITATIF
Abstract: front page image
(EN)A co-axial electro-mechanical feedthrough for ultra high vacuum application is provided for both moving a Faraday collector as well as measuring the electrical signal set up by the impinging charged particles on the Faraday collector by placing electrical feedthrough inside the motion feedthrough. When the thimble of the motion feedthrough is rotated, linear motion is simultaneously transmitted to the co-axial arrangement of the Faraday collector and the electrical feedthrough without any relative motion between the two. The improved device has a standard ultra high vacuum flange for mounting on the vacuum chamber and requires only one port. The improved electro-mechanical device of the invention is useful for profiling the charged particle beams encountered in vacuum based analytical instruments and systems such as mass spectrometers, ion and electron accelerators and electron beam welding machines, etc.
(FR)Cette invention concerne un passage électromécanique coaxiale pour applications sous vide poussé permettant à la fois de déplacer un collecteur faradique et de mesurer le signal électrique provoqué par les particules chargées qui heurtent le collecteur faradique, le passage électrique étant disposé à l'intérieur du passage de mouvement. Lorsque la cosse du passage de mouvement tourne, un mouvement linéaire est transmis simultanément au dispositif coaxial du collecteur faradique et au passage électrique sans mouvement relatif entre l'un et l'autre. Le dispositif amélioré comporte une collerette classique pour vide poussé se montant sur la chambre à vide et n'exigeant qu'un seul orifice. Le dispositif électromécanique amélioré de l'invention convient pour le profilage de faisceaux chargés de particules rencontrés dans le vide à partir d'instruments et de systèmes analytiques tels que spectromètres de masse, accélérateurs d'ions et d'électrons ou machines à souder par bombardement électronique.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)