WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2005010948) CLEANING PROCESS AND APPARATUS FOR SILICATE MATERIALS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2005/010948    International Application No.:    PCT/US2004/023597
Publication Date: 03.02.2005 International Filing Date: 22.07.2004
IPC:
B44C 1/22 (2006.01), C23F 1/00 (2006.01)
Applicants: CHEMTRACE PRECISION CLEANING, INC. [US/US]; 44050 Fremont Boulevard, Fremont, CA 94538 (US) (For All Designated States Except US)
Inventors: TAN, Samantha; (US).
CHEN, Ning; (US)
Agent: HICKMAN, Paul, L.; Perkins Coie LLP, 101 Jefferson Drive, Menlo Park, CA 94025 (US)
Priority Data:
10/627,185 24.07.2003 US
Title (EN) CLEANING PROCESS AND APPARATUS FOR SILICATE MATERIALS
(FR) PROCEDE ET APPAREIL DE NETTOYAGE POUR MATERIAUX A BASE DE SILICATE
Abstract: front page image
(EN)A method for treating a surface of a quartz substrate includes preparing a substrate to provide a working surface having an initial roughness; and then ultrasonically acid-etching the working surface to increase the roughness of the working surface by at least about 10%. In one embodiment, the initial surface roughness is greater than about 10 Ra, and in another embodiment the initial surface roughness is greater than about 200 Ra. In a still further embodiment, the initial surface area, if less than about 200 Ra, is increased to greater than about 200 Ra. In other embodiments of the present invention, the working surface roughness is increased by at least about 25% or at least about 50%. Simultaneous with the increase in surface area (as measured by the roughness), the surface defects are reduced to reduce particulate contamination from the substrate.
(FR)La présente invention se rapporte à un procédé de nettoyage d'une surface d'un substrat en quartz qui consiste à préparer un substrat à présenter une surface de travail ayant une rugosité initiale ; puis à graver à l'acide par voie ultrasonique la surface de travail de manière à accroître la rugosité de cette surface de travail d'au moins 10 % environ. Dans un mode de réalisation, la rugosité de surface initiale est supérieure à environ 10 Ra, et dans un autre mode de réalisation, la rugosité de surface initiale est supérieure à 200 Ra environ. Dans un mode de réalisation encore différent, l'aire de la surface initiale, si elle est inférieure à 200 Ra environ, est accrue jusqu'à une valeur supérieure à 200 Ra environ. Dans d'autres modes de réalisation de la présente invention, la rugosité de la surface de travail est accrue d'au moins 25 % environ ou d'au moins 50 % environ. Simultanément à l'accroissement de l'aire de surface (telle que mesurée par la rugosité), les défauts de surface sont réduits afin que la contamination particulaire à partir du substrat soit réduite.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)