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Pub. No.: WO/2005/010615 International Application No.: PCT/JP2004/011103
Publication Date: 03.02.2005 International Filing Date: 28.07.2004
Chapter 2 Demand Filed: 17.12.2004
G03F 7/004 (2006.01) ,G03F 7/022 (2006.01) ,G03F 7/023 (2006.01)
Applicants: TSUJI, Shinsuke[JP/JP]; JP (UsOnly)
IINUMA, Yosuke[JP/JP]; JP (UsOnly)
ARASE, Shinya[JP/JP]; JP (UsOnly)
NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.[JP/JP]; 7-1, Kanda-Nishiki-cho 3-chome Chiyoda-ku, Tokyo 1010054, JP (AllExceptUS)
Inventors: TSUJI, Shinsuke; JP
IINUMA, Yosuke; JP
ARASE, Shinya; JP
Agent: SENMYO, Kenji; Torimoto Kogyo Bldg. 38, Kanda-Higashimatsushitacho, Chiyoda-ku, Tokyo 101-0042, JP
Priority Data:
(JA) ポジ型感光性樹脂組成物
Abstract: front page image
(EN) A positive type photosensitive resin composition which can form a cured film excellent in processing resistance including heat resistance, solvent resistance, and resistance to long-term burning and in transparency. It is excellent in photosensitive properties including resolution and sensitivity, has high storage stability, and has a wide process margin. When used for producing liquid-crystal displays, the composition has such high reliability that use of the composition does not lead to deterioration in electrical properties. The positive type photosensitive resin composition is characterized by comprising: an alkali-soluble resin which is a copolymer formed from monomers comprising an unsaturated carboxylic acid derivative and an N-substituted maleimide as essential ingredients and has a number-average molecular weight of 2,000 to 20,000; a 1,2-quinonediazide compound represented by the general formula (1): (wherein D's each independently is hydrogen or an organic group having a 1,2-quinonediazide group and R1 is carbon or a tetravalent organic group, provided that at least one of the D's is an organic group having a 1,2-quinonediazide group); and a crosslinking compound represented by the general formula (2): (wherein n is an integer of 2 to 10, m is an integer of 0 to 4, and R2 represents an n-valent organic group), which is contained in an amount of 5 to 50 parts by weight based on the alkali-soluble resin.
(FR) L'invention concerne une composition de résine photosensible de type positif pouvant former un film durci excellent pour résister aux différents traitements, notamment à la chaleur, aux solvants, à la brûlure sur le long terme et en transparence. Les propriétés photosensibles excellentes, notamment la résolution et la sensibilité, présentent une stabilité au stockage excellente, et présentent également une marge de progression. Lors de l'utilisation, pour produire des affichages à cristaux liquides, la composition est d'une telle fiabilité que son utilisation n'entraîne pas de détérioration des propriétés électriques. La composition de l'invention comprend : une résine soluble alcali qui est un copolymère formé à partir de monomères comprenant un dérivé d'acide carboxylique non saturé et un maléimide substitué en N, utilisés en tant qu'ingrédients principaux et elle présente un poids moléculaire moyen compris entre 2000 et 20 000 ; un composé de 1,2-quinonediazide de formule (1), dans laquelle chaque D représente hydrogène ou un groupe organique comprenant un groupe 1,2-quinonediazide et R1 représente carbone ou un groupe organique tétravalent, D représentant un groupe organique comprenant un groupe 1,2-quinonediazide. Ladite composition comprend également un composé de réticulation de formule (2), dans laquelle n est un nombre entier compris entre 2 et 10, m est un nombre entier compris entre 0 et 4 et R2 représente un groupe organique n-valent, ledit composé représentant entre 5 à 50 % en poids de la résine soluble alcali.
(JA) 耐熱性、耐溶剤性、長時間焼成耐性等のプロセス耐性、及び透明性に優れる硬化膜を作製することができ、かつ、解像度、感度等の感光特性に優れ、保存安定性が高くプロセスマージンの広いポジ型感光性樹脂組成物、さらには液晶表示素子用途として、電気特性の悪化を招くことのない信頼性の高いポジ型感光性樹脂組成物を提供する。 不飽和カルボン酸誘導体とN−置換マレイミドとを必須とする共重合体であり、数平均分子量が2,000~20,000のアルカリ可溶性樹脂と、一般式(1)(式中、Dはそれぞれ独立に水素原子又は1,2−キノンジアジド基を有する有機基であり、R1は炭素原子又は4価の有機基である。ただし、Dの少なくとも1つは、1,2−キノンジアジド基を有する有機基である。)で示される1,2−キノンジアジド化合物と、アルカリ可溶性樹脂に対して5~50重量部の一般式(2)(式中、nは2~10の整数、mは0~4の整数を示し、R2はn価の有機基を表す)で表される架橋性化合物とを含有することを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)