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1. (WO2004102272) PHOTORESIST COMPOSITION FOR DEEP UV AND IMAGING PROCESS THEREOF
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2004/102272    International Application No.:    PCT/EP2004/004867
Publication Date: 25.11.2004 International Filing Date: 07.05.2004
Chapter 2 Demand Filed:    08.12.2004    
IPC:
G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01)
Applicants: AZ ELECTRONIC MATERIALS USA CORP. [US/US]; 70 Meister Avenue, Somerville, NJ 8876 (US) (For All Designated States Except US)
Inventors: LEE, Sangho; (US).
RAHMAN, Dalil, M.; (US).
MCKENZIE, Douglas; (US).
KIM, Woo-Kyu; (US).
PADMANABAN, Munirathna; (US).
OBERLANDER, Joseph, E.; (US).
TOUKHY, Medhat, A.; (US)
Agent: ISENBRUCK, Günter; Isenbruck, Bösl, Hörschler, Wichmann, Huhn, Theodor-Heuss-Anlage 12, 68165 Mannheim (DE)
Priority Data:
10/440,542 16.05.2003 US
Title (EN) PHOTORESIST COMPOSITION FOR DEEP UV AND IMAGING PROCESS THEREOF
(FR) COMPOSITION DE RESINE PHOTOSENSIBLE POUR L'ULTRAVIOLET PROFOND ET PROCEDE
Abstract: front page image
(EN)The present invention relates to a novel photoresist composition sensitive to radiation in the deep ultraviolet, particularly a positive working photoresist sensitive in the range of 100-300 nm, and a process for using it. The photoresist composition comprises: a) a polymer that is insoluble in an aqueous alkaline solution and comprises at least one acid labile group, and further where the polymer comprises at least one alicyclic hydrocarbon unit, at least one cyclic anhydride, at least one acrylate unit with the structure (1), and at least one acrylate unit with structure (2): where, R’ and R are independently H or (C1-C4)alkyl; R1 is a pendant cyclic lactone, and, R2 is a pendant nonlactone aliphatic hydrocarbon moiety, b) a compound or a mixture of compounds capable of producing acid upon irradiation. The invention further relates to the use of a solvent comprising valerolactone as a solvent for photosensitive materials. Preferably, the solvent is gamma valerolactone. The solvent may be in a mixture with another photoresist solvent or solvents.
(FR)La présente invention concerne une nouvelle composition de résine photosensible sensible au rayonnement dans l'ultraviolet profond, en particulier une résine photosensible positive sensible dans la plage de 100 à 300 nm, ainsi qu'un procédé d'utilisation de ladite résine. Cette composition de résine photosensible comprend : a) un polymère insoluble dans une solution alcaline aqueuse et présentant au moins un groupe labile acide, lequel polymère comprend également au moins une unité hydrocarbure alicyclique, au moins un anhydride cyclique, au moins une unité acrylate de structure (1) et au moins une unité acrylate de structure (2), structures dans lesquelles R et R' représentent indépendamment H ou (C1-C4)alkyle ; R1 est une lactone cyclique latérale et R2 et une fraction hydrocarbure aliphatique non lactone latérale, et b) un composé ou un mélange de composés pouvant produire de l'acide sous irradiation. Ladite invention concerne également l'utilisation d'un solvant à base de valérolactone en tant que solvant pour matières photosensibles. De préférence, ce solvant est la gamma-valérolactone. Ledit solvant peut être mélangé à un ou plusieurs autres solvants pour résine photosensible.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)