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1. (WO2004102224) AXICON SYSTEM AND EXPOSURE SYSTEM EQUIPPED WITH THE SAME
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.: WO/2004/102224 International Application No.: PCT/EP2004/004874
Publication Date: 25.11.2004 International Filing Date: 07.05.2004
IPC:
G02B 5/04 (2006.01) ,G02B 13/14 (2006.01) ,G02B 27/09 (2006.01) ,G02B 27/28 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01)
Applicants: DEGÜNTHER, Markus[DE/DE]; DE (UsOnly)
BROTSACK, Markus[DE/DE]; DE (UsOnly)
CARL ZEISS SMT AG[DE/DE]; Carl-Zeiss-Strasse 22 73447 Oberkochen, DE (AllExceptUS)
Inventors: DEGÜNTHER, Markus; DE
BROTSACK, Markus; DE
Agent: RUFF, WILHELM, BEIER, DAUSTER UND PARTNER; Kronenstrasse 30 70174 Stuttgart, DE
Priority Data:
103 22 376.213.05.2003DE
Title (EN) AXICON SYSTEM AND EXPOSURE SYSTEM EQUIPPED WITH THE SAME
(FR) SYSTEME AXICONIQUE ET SYSTEME D'ECLAIRAGE EQUIPE DE CE DERNIER
(DE) AXICONSYSTEM UND BELEUCHTUNGSSYSTEM DAMIT
Abstract:
(EN) The invention relates to an axicon system that can be used, for example, in an exposure system for a microlithographic projection-exposure installation. Said system re-shapes an incident light distribution, which strikes its incident surface, into an exit light distribution that emerges from its exit surface by radially re-distributing the light intensity. In one embodiment, the axicon system comprises an optical axis and an axicon element with a first axicon surface and an additional surface lying opposite said axicon surface. At least one of the surfaces is coated with an optical compensation layer, which uses an elliptical transmission function to induce a location-dependent compensation of transmission irregularities on the axicon surface, said irregularities being caused by polarisation-selective reflection and transmission.
(FR) L'invention concerne un système axiconique, pouvant être utilisé par exemple dans un système d'éclairage destiné à une installation d'exposition par projection dans le domaine de la microlithographie. Ce système sert à transformer une répartition de lumière incidente frappant sa surface d'entrée en une répartition de lumière de sortie sortant de sa surface de sortie, par redistribution radiale de l'intensité lumineuse. Dans un mode de réalisation, ce système axiconique présente un axe optique et un élément axiconique comportant une première surface axiconique et une autre surface située en face de cette dernière. Au moins une des surfaces est recouverte d'un revêtement de compensation optique qui provoque, par l'intermédiaire d'une fonction de transmission elliptique, une compensation, dépendante de l'emplacement, d'hétérogénéités de transmission conditionnées par la réflexion et la transmission, qui sont fonction de la polarisation, au niveau de la surface axiconique.
(DE) Ein Axiconsystem, das beispielsweise in einem Beleuchtungssystem für eine Mikrolithografie-Projektionsbelichtungsanlage verwendet werden kann, dient zur Umformung einer auf seine Eintrittsfläche auftreffenden Eintrittslichtverteilung in eine aus seiner Austrittsfläche austretende Austrittslichtverteilung durch radiale Umverteilung von Lichtintensität. Bei einer Ausführungsform hat das Axiconsystem eine optische Achse und ein Axiconelement mit einer ersten Axiconfläche und einer der Axiconfläche gegenüber liegenden weiteren Fläche. Mindestens eine der Flächen ist mit einer optischen Kompensationsbeschichtung belegt, die durch eine elliptische Transmissionsfunktion eine ortsabhängige Kompensation von durch polarisationsselektive Reflexion und Transmission an der Axiconfläche bedingten Transmissionsinhomogenitäten des Axiconsystems bewirkt.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: German (DE)
Filing Language: German (DE)