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1. (WO2004101857) METHODS AND APPARATUS FOR FORMING MULTI-LAYER STRUCTURES USING ADHERED MASKS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2004/101857    International Application No.:    PCT/US2004/014360
Publication Date: 25.11.2004 International Filing Date: 07.05.2004
IPC:
H01L 21/4763 (2006.01)
Applicants: MICROFABRICA INC. [US/US]; 1103 West Isabel Street, Burbank, CA 91506 (US) (For All Designated States Except US)
Inventors: COHEN, Adam, L.; (US).
THOMASSIAN, Jill, R.; (US).
LOCKARD, Michael, S.; (US).
KILGO, Marvin, M., III; (US).
FRODIS, Uri; (US).
SMALLEY, Dennis, R.; (US)
Agent: SMALLEY, Dennis, R.; Microfabrica Inc., 1103 West Isabel Street, Burbank, CA 91506 (US)
Priority Data:
60/468,741 07.05.2003 US
60/474,625 29.05.2003 US
Title (EN) METHODS AND APPARATUS FOR FORMING MULTI-LAYER STRUCTURES USING ADHERED MASKS
(FR) PROCEDES ET APPAREILS PERMETTANT DE FORMER DES STRUCTURES MULTICOUCHES AU MOYEN DE MASQUES COLLES
Abstract: front page image
(EN)Numerous electrochemical fabrication methods and apparatus are provided for producing multi-layer structures (e.g. having meso-scale or micro-scale features) from a plurality of layers of deposited materials using adhered masks (e.g. formed from liquid photoresist or dry film), where two or more materials may be provided per layer where at least one of the materials is a structural material and one or more of any other materials may be a sacrificial material which will be removed after formation of the structure. Materials may comprise conductive materials that are electrodeposited or deposited in an electroless manner. In some embodiments special care is undertaken to ensure alignment between patterns formed on successive layers.
(FR)L'invention concerne de nombreux procédés de fabrication et appareils électrochimiques permettant de produire des structures multicouches (p. ex. présentant des attributs d'échelle méso ou micrométrique) à partir d'une pluralité de couches de matériaux déposés, au moyen de masques collés (formés p. ex. à partir d'une photorésine liquide ou d'une pellicule sèche), comprenant au moins deux matériaux par couche, et au moins un de ces matériaux étant un matériau structurel, et un ou plusieurs des matériaux restants pouvant être des matériaux sacrificiels qui seront éliminés après que la structure a été formée. Les matériaux utilisés peuvent comprendre des matériaux conducteurs appliqués par électrodéposition ou par dépôt autocatalytique. Dans certains modes de réalisation, un soin particulier est porté à l'alignement entre les motifs formés sur les couches successives.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)