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1. (WO2004098848) METHOD FOR CLEANING SIC PARTICLES
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2004/098848    International Application No.:    PCT/NO2004/000094
Publication Date: 18.11.2004 International Filing Date: 01.04.2004
IPC:
B07B 9/02 (2006.01), B24B 55/12 (2006.01), B28D 5/00 (2006.01)
Applicants: SINTEF [NO/NO]; Richard Birkelands vei 2b, N-7465 Trondheim (NO) (For All Designated States Except US).
RAANESS, Ola, Schiefloe [NO/NO]; (NO) (For US Only).
CHMELAR, Juraj [SK/NO]; (NO) (For US Only)
Inventors: RAANESS, Ola, Schiefloe; (NO).
CHMELAR, Juraj; (NO)
Agent: CURO AS; Box 38, N-7231 Lundamo (NO)
Priority Data:
20031821 23.04.2003 NO
Title (EN) METHOD FOR CLEANING SIC PARTICLES
(FR) PROCEDE DE PURIFICATION DE PARTICULES DE CARBURE DE SILICIUM
Abstract: front page image
(EN)Method for cleaning of silicon carbide particles from fine grain particles adhering to said silicon carbide particles, typically in the form of agglomerates of metal particles, subsequent to production (cutting) of silicon wafers and after removal of any present solute or dispersing agent from the particles. The particles (1) of contaminated silicon carbide are firstly exposed to a mechanical treatment in a first step (2) of cleaning in a per se known classifying apparatus where a first coarse fraction (3) of particles, agglomerates, larger than the original silicon carbide particles, are separated out and treated in a process (4) where the agglomerates are broken down to individual grains, without crushing said individual grains, and thereafter recycled (5) to said first step (2) of cleaning. A first fine fraction (6) is discharged from said first step (2) and transferred to a second step (7) of cleaning conducted in a per se known classifying apparatus from which the particles of silicon carbide are discharged in the form of a second coarse fraction (8), while the contaminants separated out in said second step of cleaning, are discharged in the form of a second fine fraction (9).
(FR)L'invention concerne un procédé de purification de particules de carbure de silicium permettant de supprimer les particules à granulométrie fine qui adhèrent auxdites particules de carbure de silicium, généralement sous forme d'agglomérats de particules métalliques, suite à la production (coupe) de tranches de silicium, et après le retrait de tout soluté ou agent de dispersion se trouvant au contact desdites particules. Les particules de carbure de silicium contaminées (1) sont tout d'abord soumises à un traitement mécanique, au cours d'une première étape de nettoyage (2) effectuée au moyen d'un appareil de classification connu en soi dans lequel une première fraction grossière (3) de particules qui sont plus grandes que les particules de carbure de silicium de départ et qui se présentent sous forme d'agglomérats, est séparée et traitée lors d'un processus (4) au cours duquel les agglomérats sont cassés en grains individuels sans que lesdits grains individuels ne soient broyés, et le produit résultant est soumis à nouveau (5) à ladite première étape de nettoyage (2). Une première fraction fine (6) est obtenue à l'issue de cette première étape (2) et soumise à une deuxième étape de nettoyage (7) effectuée à l'aide d'un appareil de classification connu en soi à la sortie duquel les particules de carbure de silicium se présentent sous la forme d'une deuxième fraction grossière (8), et les agents contaminants, qui ont été séparés au cours de ladite deuxième étape de nettoyage, sous la forme d'une deuxième fraction fine (9).
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: Norwegian (NO)