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1. (WO2004097927) PURGING APPARATUS AND PURGING METHOD
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2004/097927    International Application No.:    PCT/JP2004/006162
Publication Date: 11.11.2004 International Filing Date: 28.04.2004
IPC:
H01L 21/00 (2006.01), H01L 21/677 (2006.01)
Applicants: TDK CORPORATION [JP/JP]; 1-13-1, Nihonbashi Chuo-ku, Tokyo 1038272 (JP) (For All Designated States Except US).
MIYAJIMA, Toshihiko [JP/JP]; (JP) (For US Only).
IGARASHI, Hiroshi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
SUZUKI, Hitoshi [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: MIYAJIMA, Toshihiko; (JP).
IGARASHI, Hiroshi; (JP).
SUZUKI, Hitoshi; (JP)
Agent: OKABE, Masao; No. 602, Fuji Bldg. 2-3, Marunouchi 3-chome Chiyoda-ku, Tokyo 1000005 (JP)
Priority Data:
2003-123792 28.04.2003 JP
2003-273267 11.07.2003 JP
Title (EN) PURGING APPARATUS AND PURGING METHOD
(FR) APPAREIL DE PURGE ET PROCEDE DE PURGE
(JA) パージ装置およびパージ方法
Abstract: front page image
(EN)A purging apparatus is disclosed which enables to easily and surely remove contaminants or the like from wafers housed in an FOUP. While holding a cover of the FOUP separated from the main body so that the FOUP has an opening, the purging apparatus moves a gas supply nozzle on the front side of the opening along the direction in which the wafers are aligned and blows a cleaning gas towards each one of the wafers through the gas supply nozzle, thereby removing contaminants or the like from the wafers.
(FR)La présente invention a trait à un appareil de purge permettant l'élimination aisée et sure de contaminants ou analogues à partir de plaquettes logées dans un réceptacle unifié à ouverture frontale. Grâce au maintien d'un couvercle du réceptacle unifié à ouverture frontale séparé du corps principal de sorte que le réceptacle unifié à ouverture frontale présente une ouverture, l'appareil de purge déplace une buse d'alimentation en gaz sur la partie avant de l'ouverture selon une direction dans laquelle les plaquettes sont alignées et souffle un gaz de nettoyage vers chacune des plaquettes à travers la buse d'alimentation en gaz, éliminant ainsi les contaminants ou analogues à partir des plaquettes.
(JA)本発明は、FOUPに収容されたウエハからの汚染物質等の除去操作を容易且つ確実に行うことを目的とする。当該目的達成のために、本発明に係るパージ装置は、FOUPにおける蓋を本体から分離した状態において、開口の前面をウエハが重ねられたに方向に沿ってガス供給ノズルを移動させ、ウエハ一枚一枚に対してガス供給ノズルより清浄ガスを吹き付けることによって、ウエハからの汚染物質等の除去を行うこととする。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)