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1. (WO2004096557) INKJET PRINTHEAD NOZZLE PLATE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2004/096557    International Application No.:    PCT/US2004/012283
Publication Date: 11.11.2004 International Filing Date: 20.04.2004
IPC:
B41J 2/16 (2006.01)
Applicants: LEXMARK INTERNATIONAL, INC. [US/US]; 740 West New Circle Road, Lexington, KY 40550 (US)
Inventors: PATIL, Girish, S.; (US)
Agent: BARKER, Scott, N.; Lexmark International, Inc., 740 West New Circle Road, Lexington, KY 40550 (US)
Priority Data:
10/422,153 24.04.2003 US
Title (EN) INKJET PRINTHEAD NOZZLE PLATE
(FR) PLAQUE DE BUSE DE TETE D'IMPRESSION A JET D'ENCRE
Abstract: front page image
(EN)Methods of forming a nozzle plate include forming a first reverse imageable positive photoresist layer on the substrate and protecting an area thereof adjacent an ink ejection element from ultraviolet energy while exposing other than the protected area to such energy. Thereafter, the non-protected area is rendered insoluble by heating. Thereafter, the protected are is exposed to ultraviolet energy to weaken its structure for later removal. A second reverse imageable positive resist layer gets formed on the first layer and exposed to ultraviolet energy in a region directly above the ink ejection element. In a single step, both the protected area of the first layer and the non-protected region of the second layer are removed to form an ink flow feature, a bubble chamber or an orifice of the nozzle plate. The remainders of the first and second layers become blanket exposed to ultraviolet energy and cured in place.
(FR)L'invention concerne des procédés de formation d'une plaque de buse, qui consistent à former sur le substrat une première couche de photorésine positive à inversion d'image et à protéger une zone de ce dernier adjacente à un élément d'éjection d'encre contre l'énergie ultraviolette, tout en exposant le reste du substrat autre que la zone protégée à ladite énergie. La zone non protégée est ensuite rendue insoluble par chauffage, après quoi la zone protégée est exposée à une énergie ultraviolette afin que sa structure soit affaiblie en vue de son enlèvement ultérieur. Une seconde couche de photorésine positive à inversion d'image est formée sur la première couche et est exposée à une énergie ultraviolette dans une zone située directement au-dessus de l'élément d'éjection d'encre. Dans une étape unique, à la fois la zone protégée de la première couche et la zone non protégée de la seconde couche sont enlevées, de manière que soit formé(e) une caractéristique d'écoulement d'encre, une chambre à bulles ou un orifice de la plaque de buse. Le reste des première et seconde couches est exposé avec blanchet à l'énergie ultraviolette et est durci sur place.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)