WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2004095553) METHOD FOR PRODUCING A STRAINED LAYER ON A SUBSTRATE AND CORRESPONDING LAYER STRUCTURE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2004/095553    International Application No.:    PCT/DE2004/000780
Publication Date: 04.11.2004 International Filing Date: 15.04.2004
IPC:
H01L 21/20 (2006.01), H01L 21/265 (2006.01)
Applicants: FORSCHUNGSZENTRUM JÜLICH GMBH [DE/DE]; Wilhelm-Johnen-Strasse, 52425 Jülich (DE) (For All Designated States Except US).
MANTL, Siegfried [AT/DE]; (DE) (For US Only).
HOLLÄNDER, Bernhard [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Inventors: MANTL, Siegfried; (DE).
HOLLÄNDER, Bernhard; (DE)
Common
Representative:
FORSCHUNGSZENTRUM JÜLICH GMBH; Fachbereich Patente, 52425 Jülich (DE)
Priority Data:
103 18 284.5 22.04.2003 DE
Title (DE) VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINER VERSPANNTEN SCHICHT AUF EINEM SUBSTRAT UND SCHICHTSTRUKTUR
(EN) METHOD FOR PRODUCING A STRAINED LAYER ON A SUBSTRATE AND CORRESPONDING LAYER STRUCTURE
(FR) PROCEDE POUR PRODUIRE UNE COUCHE CONTRAINTE SUR UN SUBSTRAT ET STRUCTURE EN COUCHES
Abstract: front page image
(DE)Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer Schichtstruktur umfassend eine verspannte Schicht auf einem Substrat mit den Schritten: Erzeugung eines Defektbereichs in einem zu der zu verspannenden Schicht benachbarten Schicht, Relaxation mindestens einer zu der verspannenden Schicht benachbarten Schicht. Der Defektbereich wird insbesondere im Substrat erzeugt. Es können epitaktisch weitere Schichten angeordnet werden. Derartig gebildete Schichtstrukturen sind vorteilhaft geeignet für verschiedenartigste Bauelemente.
(EN)The invention relates to a method for producing a layer structure comprising a strained layer on a substrate. The inventive method comprises the steps of producing a defect area in a layer adjoining the layer to be strained, and relaxing at least one layer adjoining the layer to be strained. The defect area is especially produced in the substrate. Additional layers can be epitactically grown. Layer structures so produced are especially suitable for producing various types of components.
(FR)L'invention concerne un procédé servant à produire une structure en couches comprenant une couche contrainte sur un substrat. Le procédé selon l'invention comprend les étapes suivantes : production d'une zone de défaut dans une couche voisine de la couche à contraindre et relaxation d'au moins une couche voisine de la couche à contraindre. La zone de défaut est notamment générée dans le substrat. Il est possible d'ajouter d'autres couches par épitaxie. Les structures en couches ainsi formées conviennent pour les composants les plus divers.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: German (DE)
Filing Language: German (DE)