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1. (WO2004095520) SYSTEM OF PATH PLANNING FOR ROBOTIC MANIPULATORS BASED ON MAXIMUM ACCELERATION AND FINITE JERK CONSTRAINTS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2004/095520    International Application No.:    PCT/US2004/012639
Publication Date: 04.11.2004 International Filing Date: 22.04.2004
IPC:
B25J 9/16 (2006.01)
Applicants: BERKELEY PROCESS CONTROL, INC. [US/US]; 4124 Lakeside Drive, Richmond, CA 94806 (US) (For All Designated States Except US)
Inventors: ROGERS, John; (US).
PADMANABHAN, Prasad; (US).
SAGUES, Paul; (US)
Agent: JAFFER, David, H.; Pillsbury Winthrop LLP, 2475 Hanover Street, Palo Alto, CA 94304-1114 (US)
Priority Data:
60/464,928 22.04.2003 US
Title (EN) SYSTEM OF PATH PLANNING FOR ROBOTIC MANIPULATORS BASED ON MAXIMUM ACCELERATION AND FINITE JERK CONSTRAINTS
(FR) SYSTEME DE PLANIFICATION DE PARCOURS POUR MANIPULATEURS ROBOTIQUES METTANT EN OEUVRE UNE ACCELERATION MAXIMUM ET DES CONTRAINTES DE SURACCELERATION FINIES
Abstract: front page image
(EN)A system for wafer handling employing a complex numerical method for calculating a path of wafer travel that controls wafer acceleration and jerk, and results in maximum safe speed of wafer movement from a first point to a second point. Motion is begun along a straight line segment while accelerating to a first path velocity. During this acceleration, the system computer calculates a series of straight line segments and interconnecting sinusiodally shaped paths over which the wafer is to be guided to the second point. The straight line segments and sinusiodally shaped paths are calculated so as to minimize total path length and the time required to move the wafer from the first point to the second point. The system computes the point of entrance and exit to and from each straight and sinusoidal path.
(FR)L'invention concerne un système de manipulation de plaquettes mettant en oeuvre un procédé numérique complexe destiné à calculer un parcours de déplacement de plaquette. Ce système sert à commander l'accélération et la suraccélération de la plaquette, ce qui permet d'établir une vitesse de sécurité maximum pour le déplacement de la plaquette d'un premier à un deuxième point. Le mouvement commence le long d'un segment en ligne droite, en s'accélérant jusqu'à atteindre une première vitesse de parcours. Pendant cette accélération, l'ordinateur du système calcule une série de segments en ligne droite et de parcours de forme sinusoïdale interconnectés, sur lesquels la plaquette doit être guidée vers le deuxième point. Les segments en ligne droite et les parcours de forme sinusoïdale sont calculés de sorte à réduire au minimum la longueur totale du parcours et le temps nécessaire pour déplacer la plaquette du premier au deuxième point. Le système selon l'invention calcule le point d'entrée et de sortie pour chaque parcours droit et sinusoïdal.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)