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1. (WO2004095497) HIGH-DENSITY PLASMA SOURCE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2004/095497    International Application No.:    PCT/US2004/010724
Publication Date: 04.11.2004 International Filing Date: 07.04.2004
IPC:
H01J 37/32 (2006.01), H01J 37/34 (2006.01)
Applicants: ZOND, INC. [US/US]; 137A High Street, Mansfield, Massachusetts 02048 (US) (For All Designated States Except US).
CHISTYAKOV, Roman [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: CHISTYAKOV, Roman; (US)
Agent: RAUSCHENBACH, Kurt; P.O. Box 387, Bedford, MA 01730 (US)
Priority Data:
10/249,595 22.04.2003 US
Title (EN) HIGH-DENSITY PLASMA SOURCE
(FR) SOURCE DE PLASMA HAUTE DENSITE
Abstract: front page image
(EN)A plasma source including a cathode assembly having an inner cathode section and an outer cathode section. An anode is positioned adjacent to the outer cathode section so as to form a gap there between. A first power supply generates a first electric field across the gap between the anode and the outer cathode section. The first electric field ionizes a volume of feed gas that is located in the gap, thereby generating an initial plasma. A second power supply generates a second electric field proximate to the inner cathode section. The second electric field super-ionizes the initial plasma to generate a plasma comprising a higher density of ions than the initial plasma.
(FR)L'invention concerne une source de plasma qui comprend un ensemble cathode comportant une section de cathode interne et une section de cathode externe. Une anode est disposée à côté de la section de cathode externe de telle sorte qu'un interstice soit formé entre ces deux parties. Une première source d'alimentation électrique génère un premier champ électrique à travers l'interstice ménagé entre l'anode et la section de cathode externe. Ce premier champ électrique ionise un volume de gaz d'alimentation présent dans l'interstice, un plasma initial étant ainsi généré. Une seconde source d'alimentation électrique génère un second champ électrique à proximité de la section de cathode interne. Ce second champ électrique super-ionise le plasma initial de façon à générer un plasma présentant une densité d'ions supérieure à celle du plasma initial.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)