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1. (WO2004095260) VERY HIGH RADIX DIVISION
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2004/095260    International Application No.:    PCT/US2004/005664
Publication Date: 04.11.2004 International Filing Date: 25.02.2004
IPC:
G06F 7/52 (2006.01)
Applicants: INTEL CORPORATION [US/US]; (a Delaware Corporation), 2200 Mission College Boulevard, Santa Clara, CA 95052 (US)
Inventors: TANG, Ping; (US).
FERGUSON, Warren; (US)
Agent: STEFFEY, Charles, E.; Schwegman, Lundberg, Woessner & Kluth, P.A., P.O. Box 2938, Minneapolis, MN 55402 (US)
Priority Data:
10/394,952 21.03.2003 US
Title (EN) VERY HIGH RADIX DIVISION
(FR) DIVISION DE BASE TRES ELEVEE
Abstract: front page image
(EN)Methods, machines, and systems are provided for very high radix division using narrow data paths. A numerator and denominator are received for a very high radix division calculation. An approximate reciprocal of the denominator is obtained from a data structure. The numerator and denominator are pre-scaled by the reciprocal. The denominator is decomposed to an equivalent expression that results in a number of leading insignificant values. Next, modifying a current remainder by forming a first product and subtracting the equivalent expression iteratively assembles a quotient.
(FR)L'invention concerne des procédés, des machines et des systèmes de division de base très élevée à l'aide de chemins de données étroits. Un numérateur et un dénominateur sont reçus pour un calcul de division de base très élevée. Une réciproque approximative du dénominateur est obtenue à partir d'une structure de données. Le numérateur et le dénominateur sont pré-échelonnés par la réciproque. Le dénominateur est décomposé en une expression équivalente permettant d'obtenir un nombre de valeurs principales non significatives. La modification du reste par formation d'un premier produit et soustraction de l'expression équivalente permet d'assembler de manière itérative un quotient.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)