WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2004094696) MICROELECTRONIC DEVICE MANUFACTURING IN COORDINATED CARBON DIOXIDE PROCESSING CHAMBERS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2004/094696    International Application No.:    PCT/US2004/005220
Publication Date: 04.11.2004 International Filing Date: 23.02.2004
IPC:
B08B 7/00 (2006.01), H01L 21/00 (2006.01)
Applicants: MICELL TECHNOLOGIES INC. [US/US]; 7516 Precision Drive, Raleigh, North Carolina 27613 (US) (For All Designated States Except US).
DEYOUNG, James, P. [US/US]; (US) (For US Only).
MCCLAIN, James, B. [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: DEYOUNG, James, P.; (US).
MCCLAIN, James, B.; (US)
Agent: MYERS BIGEL SIBLEY & SAJOVEC P.A.; P.O. Box 37428, Raleigh, North Carolina 27627 (US)
Priority Data:
10/404,406 01.04.2003 US
Title (EN) MICROELECTRONIC DEVICE MANUFACTURING IN COORDINATED CARBON DIOXIDE PROCESSING CHAMBERS
(FR) FABRICATION DE DISPOSITIFS MICROELECTRONIQUES DANS DES CHAMBRES DE TRAITEMENT AU DIOXYDE DE CARBONE COORDONNEES
Abstract: front page image
(EN)A system for processing microelectronic substrates in a liquid or supercritical carbon dioxide process media comprises (a) a plurality of carbon dioxide processing chambers; (b) a carbon dioxide supply vessel operatively associated with each of the carbon dioxide processing chambers; (c) a first process chemical supply vessel operatively associated with at least one of the carbon dioxide processing chambers; (d) a waste collection vessel operatively associated with at least one of the carbon dioxide processing chambers; and (e) a controller operatively associated with the plurality of processing chambers, the carbon dioxide supply vessel, the vacuum pump if present, the first process chemical supply vessel, and the waste collection vessel, the controller configured to independently process microelectronic substrates in each of the processing chambers.
(FR)Cette invention se rapporte à un système qui sert à traiter des substrats microélectroniques dans un milieu de traitement au dioxyde de carbone liquide ou supercritique et qui comprend à cet effet : (a) plusieurs chambres de traitement au dioxyde de carbone ; (b) un récipient source de dioxyde de carbone fonctionnellement associé à chacune des chambres de traitement au dioxyde de carbone ; (c) un premier récipient source de produits chimiques de traitement, fonctionnellement associé à au moins l'une des chambres de traitement au dioxyde de carbone ; (d) un récipient collecteur de déchets fonctionnellement associé à au moins l'une des chambres de traitement au dioxyde de carbone ; et (e) une unité de commande fonctionnellement associée aux chambres de traitement, au récipient source de dioxyde de carbone, le cas échéant à la pompe sous vide, au premier récipient source de produits chimiques de traitement et au récipient collecteur de déchets, l'unité de commande étant configurée pour traiter indépendamment les substrats microélectroniques dans chacune des chambres de traitement.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)