WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Machine translation
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2004/094311    International Application No.:    PCT/JP2004/006041
Publication Date: 04.11.2004 International Filing Date: 26.04.2004
C09D 183/04 (2006.01), H01L 21/316 (2006.01)
Applicants: MITSUI CHEMICALS, INC. [JP/JP]; 5-2, Higashi-Shimbashi 1-chome Minato-ku, Tokyo 105-7117 (JP) (For All Designated States Except US).
OIKE, Shunsuke [JP/JP]; (JP) (For US Only).
KOMURA, Kazuo [JP/JP]; (JP) (For US Only).
MURAKAMI, Masami [JP/JP]; (JP) (For US Only).
KUBOTA, Takeshi [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: OIKE, Shunsuke; (JP).
KOMURA, Kazuo; (JP).
MURAKAMI, Masami; (JP).
KUBOTA, Takeshi; (JP)
Priority Data:
2003-120339 24.04.2003 JP
(JA) 多孔質シリカ形成用塗布液
Abstract: front page image
(EN)A coating liquid for forming porous silica is characterized by preferably containing a partial hydrolysis-condensation product of an alkoxysilane compound, a surfactant and an organic ampholyte, and by having a metal content of not more than 50 ppb. Conventional coating liquids for forming porous silica have such a problem that porous silica films formed therefrom may have poor regularity in micropore alignment when the shelf-life periods of the coating liquids are long. On the contrary, the coating liquid for forming porous silica of the present invention is excellent in shelf life stability. Namely, the quality of a porous silica formed therefrom is hardly affected by the length of shelf-life period of the coating liquid. Consequently, the coating liquid enables to stably produce porous silica films which cause no shift in capacitance or voltage when exposed to an electric field, have regularly aligned uniform micropores, and are preferably used as optically functional material or electronically functional material.
(FR)La présente invention a trait à un liquide de revêtement pour la formation de silice poreuse caractérisé en ce qu'il contient de préférence un produit d'hydrolyse/condensation partielle d'un composé alcoxysilane, un tensioactif et un ampholyte organique, et en ce qu'il présente une teneur métallique inférieure à 50 parties par milliard. Les liquides de revêtement classiques pour la formation de silice poreuse présentent un problème en ce que la silice poreuse formée à partir d'eux peuvent présenter une faible uniformité dans l'alignement des micropores lors de longues périodes de stockage des liquides de revêtement. A l'opposé, le liquide de revêtement pour la formation de silice poreuse de la présente invention présente une excellente stabilité de stockage. Notamment, la qualité d'une silice poreuse formée à partir de celui-ci ne subit presque aucune altération due à la longueur de la période de stockage du liquide de revêtement. Par conséquent, le liquide de revêtement permet la production stable de films de silice poreuse qui ne provoquent aucun décalage dans la capacité ou la tension lors de leur exposition à un champ électrique, présentent des micropores d'alignement uniforme, et sont de préférence utilisés en tant que matériau à fonctionnalité optique ou matériau à fonctionnalité électronique.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)