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1. (WO2004035255) CYCLIC STRUCTURE FORMATION METHOD AND SURFACE TREATMENT METHOD
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2004/035255    International Application No.:    PCT/JP2003/012308
Publication Date: 29.04.2004 International Filing Date: 25.09.2003
IPC:
B23K 26/073 (2006.01), B23K 26/36 (2006.01)
Applicants: NEC MACHINERY CORPORATION [JP/JP]; 85, Aza Nawatezaki, Minamiyamadacho, Kusatsu-shi, Shiga 525-8511 (JP) (For All Designated States Except US).
SAWADA, Hiroshi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
KUROSAWA, Kou [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: SAWADA, Hiroshi; (JP).
KUROSAWA, Kou; (JP)
Agent: EHARA, Syogo; EHARA PATENT OFFICE, 15-26, EDOBORI 1-CHOME, NISHI-KU, OSAKA-SHI, Osaka 550-0002 (JP)
Priority Data:
2002-283954 27.09.2002 JP
2002-344478 27.11.2002 JP
Title (EN) CYCLIC STRUCTURE FORMATION METHOD AND SURFACE TREATMENT METHOD
(FR) PROCEDE DE FORMATION D'UNE STRUCTURE CYCLIQUE ET PROCEDE DE TRAITEMENT DE SURFACE
(JA) 周期構造作成方法および表面処理方法
Abstract: front page image
(EN)A cyclic structure formation method for continuously and widely forming a cyclic structure by using a uniaxial laser beam, comprising the steps of radiating the laser beam (1) having a threshold near a finishing threshold to a specimen (2), overlappingly scanning the laser beam thereon to increase scattered light (13) by an abrasion (12) due to the interference (11) of incident light with the scattered light along the surface of the material of the specimen so as to cause the interference at an interval equal to the wavelength &lgr; of the laser beam (1)(14) in order to self-organizingly form the cyclic structure (15), wherein the cyclic pitch of the formed cyclic structure is changed by changing the incident angle of the laser beam (1) on the surface of the specimen (2), and when the incident light of the laser beam (1) on the surface of the specimen (2) has an angle, the cyclic pitch thereof can be changed by changing the scanning direction thereof.
(FR)L'invention concerne un procédé destiné à la formation d'une structure cyclique, permettant de former une structure cyclique en continu et sur une grande surface, à l'aide d'un faisceau laser uniaxial. Ce procédé consiste à projeter un faisceau laser (1) ayant un seuil proche d'un seuil final sur un échantillon (2), à balayer de manière superposée le faisceau laser pour augmenter la diffusion de la lumière (13) par une abrasion (12) due à l'interférence (11) de la lumière incidente avec la lumière diffusée le long de la surface de l'échantillon afin de produire l'interférence à un intervalle égal à la longueur d'onde $g(l) du faisceau laser (1) (14) pour former automatiquement la structure cyclique (15). Pour modifier le pas cyclique de la structure cyclique formée, il suffit de modifier l'angle d'incidence du faisceau laser (1) sur la surface de l'échantillon (2). Lorsque la lumière incidente du faisceau laser (1) sur la surface de l'échantillon présente un angle donné, il suffit de modifier la direction du balayage du faisceau pour modifier le pas cyclique de la structure cyclique.
(JA)解決すべき課題は、一軸のレーザを用いて、連続的、かつ、広範囲に周期構造を形成することである。解決手段は、一軸で、かつ加工閾値近傍のレーザ1を試料2に照射し、オーバーラップさせながら走査して、入射光と材料表面に沿った散乱光との干渉(11)によるアブレーション(12)によって、散乱光を増大させて(13)、レーザ1の波長λ間隔で干渉を起こさせて(14)、自己組織的に周期構造を作成することである(15)。作成される周期構造は、レーザ1の試料2表面への入射角を変更することによって、その周期ピッチが変更される。またレーザ1の試料2表面への入射光が角度を有する場合は、その走査方向を変更することによって、その周期ピッチが変更される。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)