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1. (WO2004032833) DETECTION OF SUPPRESSOR BREAKDOWN CONTAMINANTS IN A PLATING BATH
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2004/032833    International Application No.:    PCT/US2003/030837
Publication Date: 22.04.2004 International Filing Date: 30.09.2003
IPC:
G01N 27/42 (2006.01)
Applicants: CHALYT, Gene [US/US]; (US).
BRATIN, Peter [US/US]; (US).
PAVLOV, Michael [RU/US]; (US).
KOGAN, Alex [RU/US]; (US).
PERPICH, Michael, James [US/US]; (US)
Inventors: CHALYT, Gene; (US).
BRATIN, Peter; (US).
PAVLOV, Michael; (US).
KOGAN, Alex; (US).
PERPICH, Michael, James; (US)
Agent: TENCH, D., Morgan; 1180 Corte Riviera, Camarillo, CA 93010 (US)
Priority Data:
10/266,006 07.10.2002 US
Title (EN) DETECTION OF SUPPRESSOR BREAKDOWN CONTAMINANTS IN A PLATING BATH
(FR) DETECTION DE CONTAMINANTS DE FRAGMENTATION DE SUPPRESSEUR DANS UN BAIN GALVANOPLASTIQUE
Abstract: front page image
(EN)Relative concentrations of active suppressor additive species and suppressor breakdown contaminants in an acid copper electroplating bath are determined by cyclic voltammetric stripping (CVS) dilution titration analysis using two negative electrode potential limits. The analysis results for the more negative potential limit provide a measure of the suppressor additive concentration alone since the suppressor breakdown contaminants are not effective at suppressing the copper deposition rate at the more negative potentials. The analysis results for the less negative potential limit provide a measure of the combined concentrations of the suppressor additive and the suppressor breakdown contaminants. Comparison of the results for the two analyses yields a measure of the concentration of the suppressor breakdown contaminants relative to the suppressor additive concentration.
(FR)Les concentrations relatives d'espèces d'additifs suppresseurs actifs et de contaminants de fragmentation de suppresseur dans un bain galvanoplastique de cuivre acide sont déterminées par titrage de dilution par voltampérométrie cyclique (CVS), au moyen de deux seuils de potentiel d'électrode négatifs. Les résultats du titrage pour le seuil de potentiel le plus négatif fournissent une mesure de la concentration de l'additif suppresseur seul, étant donné que les contaminants de fragmentation de suppresseur ne parviennent pas à réduire le taux de dépôt de cuivre aux potentiels les plus négatifs. Les résultats du titrage pour le seuil de potentiel le moins négatif fournit une mesure des concentrations combinées de l'additif suppresseur et des contaminants de fragmentation de suppresseur. La comparaison des résultats des deux titrages permet d'obtenir une mesure de la concentration de contaminants de fragmentation de suppresseur par rapport à la concentration de l'additif suppresseur.
Designated States: CN, IL, IN, JP, KR, RU, SG.
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)