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1. (WO2004031856) PHOTOMASK ASSEMBLY INCORPORATING A POROUS FRAME AND METHOD FOR MAKING IT
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2004/031856    International Application No.:    PCT/US2003/031912
Publication Date: 15.04.2004 International Filing Date: 30.09.2003
Chapter 2 Demand Filed:    29.04.2004    
IPC:
A47G 1/12 (2006.01), B44F 1/00 (2006.01), C03B 37/016 (2006.01), G03F 1/14 (2006.01), G03F 9/00 (2006.01)
Applicants: YAZAKI CORPORATION [JP/JP]; 17th Floor, Mita-Kokusai Building, 4-28, 1-Chome, Mita, Minato-ku, Tokyo (JP) (For All Designated States Except US).
GANGULI, Rahul [IN/US]; (US) (For US Only).
ROBINSON, Troy [US/US]; (US) (For US Only).
MEIXNER, D., Laurence [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: GANGULI, Rahul; (US).
ROBINSON, Troy; (US).
MEIXNER, D., Laurence; (US)
Agent: BRUEGGEMANN, James, R.; Sheppard Mullin Richter & Hampton LLP, 333 South Hope Street, 48th Floor, Los Angeles, CA 90071 (US).
PARRY, Simon, J.; FORRESTER & BOEHMERT, Pettenkoferstr , 20-22, 80336 München (DE)
Priority Data:
60/415,598 02.10.2002 US
60/415,732 02.10.2002 US
10/646,356 22.08.2003 US
Title (EN) PHOTOMASK ASSEMBLY INCORPORATING A POROUS FRAME AND METHOD FOR MAKING IT
(FR) ENSEMBLE MASQUE PHOTOGRAPHIQUE COMPRENANT UN CADRE POREUX ET SON PROCEDE DE FABRICATION
Abstract: front page image
(EN)A photomask assembly is described having a frame for supporting a transparent pellicle above a photomask substrate, defining a closed pellicle space overlaying the substrate. The frame is formed of a porous material configured to allow the pellicle space to be purged with an inert gas within a reasonable processing time period, thereby removing any harmful chemicals that might be present. The frame preferably is made by a method that includes preparing a gel by a sol-gel process, drying the gel, and partially densifying the dry gel. The resulting frame has a gas permeability to oxygen or nitrogen higher than about 10 ml.mm/cm2.min.MPa, an average pore size between 0.001 micrometer and 10 micrometers, and a coefficient of thermal expansion between 0.01 ppm/°C and 10 ppm/°C.
(FR)L'invention porte sur un ensemble masque photographique comprenant un cadre destiné à supporter une pellicule transparente au-dessus d'un substrat du masque photographique et formant un espace fermé pour la pellicule chevauchant le substrat. Le cadre est formé dans un matériau poreux configuré de façon à pouvoir purger l'espace de la pellicule avec un gaz inerte sur une durée de traitement raisonnable, ce qui élimine tous les produits chimiques nocifs pouvant se trouver dans cet espace. La fabrication de ce cadre s'effectue selon un procédé qui consiste à préparer un gel par un processus sol-gel, sécher le gel et densifier partiellement le gel séché. Le cadre obtenu présente une perméabilité à l'oxygène ou à l'azote supérieure à environ 10 ml.mm/cm2.min.MPa, une granulométrie moyenne comprise entre 0,001 micromètre et 10 micromètres et un coefficient de dilatation thermique compris entre 0,01 ppm/ °C et 10 ppm/ °C.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)